[发明专利]一种亲水性氮化硼纳米片及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种亲水性氮化硼纳米片的制备方法，其特征在于：该方法是采用醇类作为溶剂，碱离子为插层试剂，通过溶剂热法制备氮化硼纳米片。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：该方法具体包括以下步骤：

(1)碱离子插层氮化硼复合物的制备：

A、将六方氮化硼粉末分散在醇类试剂中，制得分散液，所配置得到的分散液中六方氮化硼粉末的浓度为0.5～2mg/mL；再向该分散液中加入浓度为2.5mol/L的碱溶液，超声混匀制得混合液；所述醇类试剂和碱溶液的体积比为30：1～5；

B、将步骤A得到的混合液转移到反应釜中，密封；放置在温度为100～180℃的烘箱内反应6～24h，待冷却至室温，真空抽滤并用去离子水洗涤后收集沉积在微孔滤膜上的白色粉末，放入真空干燥箱干燥去除多余的水分，即可得到碱离子插层氮化硼复合物；

(2)氮化硼纳米片的制备：

C、将步骤(1)得到碱离子插层氮化硼复合物重新分散于水溶液超声处理10～60min，离心去除未被剥离的六方氮化硼粉末，即可得到氮化硼纳米片的水分散液；

D、将步骤C得到的分散液转移到截留分子量为8000～14000Da的透析袋中透析至中性，除去残余的碱离子，得到纯化的氮化硼纳米片水分散液；将氮化硼纳米片水分散液冷冻结冰后通过真空冷冻干燥即可获得氮化硼纳米片粉末。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：步骤A中所述的醇类试剂为乙醇、乙二醇、丙三醇；所述的碱溶液为氢氧化钠溶液、氢氧化钾溶液或氢氧化锂溶液。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：步骤A中所述超声的功率为118～122W。

5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：步骤B中所述的反应釜为聚四氟乙烯内衬反应釜；所述真空抽滤所用的滤膜为有机滤膜，孔径为0.22um。

6.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：步骤D中所述的透析的时间为2～3天，每个6小时更换一次去离子水，直至中性。

7.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：步骤D中所述的真空冷冻干燥是在温度为-40～-90℃，气压为8～20Pa的条件下冷冻干燥，得到氮化硼纳米片粉末。

8.一种根据权利要求1-7任一项所述的制备方法制备得到的亲水性氮化硼纳米片。

9.根据权利要求8所述的亲水性氮化硼纳米片在药物载体、生物传感领域中的应用。