[发明专利]一种工业硅硅灰制备高纯纳米硅颗粒的方法有效
| 申请号： | 201710504429.8 | 申请日： | 2017-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN107311181B | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 魏奎先;田春瑾;马文会;李绍元;谢克强;伍继君;于洁;雷云;吕国强 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | C01B33/037 | 分类号： | C01B33/037;B82Y30/00 |
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| 地址： | 650093 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 工业 硅硅灰 制备 高纯 纳米 颗粒 方法 | ||
1.一种工业硅硅灰制备高纯纳米硅颗粒的方法，其特征在于具体步骤如下：
（1）首先将捕集到的工业硅硅灰进行表面清洗，去除硅灰表面附着物后干燥；
（2）然后以600～1500转/min高能球磨2～20h获得粒度为1000nm纳米硅颗粒；
（3）将步骤（2）得到的粒度为1000nm纳米硅颗粒根据液固比为2：1～8：1mL/g加入酸性试剂，并添加活化添加剂，在温度为40～90℃湿法处理2～12h，湿法处理完成后清洗、干燥；
（4）将经步骤（3）湿法处理的纳米硅颗粒以600～1500转/min超细磨10～60h得到100nm纳米硅颗粒；
（5）将步骤（4）得到的100nm纳米硅颗粒根据液固比为2：1～10：1mL/g加入酸性试剂，并添加活化添加剂，在温度为45～90℃二次湿法处理2～24h，最终经清洗、干燥后得到高纯纳米硅颗粒。
2.根据权利要求1所述的工业硅硅灰制备高纯纳米硅颗粒的方法，其特征在于：所述步骤（1）中捕集到的工业硅硅灰来自于工业硅块制备工业硅颗粒过程中产生的烟尘。
3.根据权利要求1所述的工业硅硅灰制备高纯纳米硅颗粒的方法，其特征在于：所述步骤（3）和步骤（5）中酸性试剂为浓度2～12mol/L，酸性试剂为HCl、H2SO4、HNO3、HF中的一种或几种任意比例混合酸。
4.根据权利要求1所述的工业硅硅灰制备高纯纳米硅颗粒的方法，其特征在于：所述步骤（3）和步骤（5）中活化添加剂为H2O2、FeCl3或KMnO4溶液，活化添加剂的加入量为与纳米硅颗粒的质量比为1～10：99～90。
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