[发明专利]抗蚀剂组合物和图案化方法有效

专利信息
申请号: 201710504684.2 申请日: 2017-06-28
公开(公告)号: CN107544206B 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 畠山润;大桥正树;藤原敬之;福岛将大;本田和也 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/00;C07C381/12;C07C309/12;C07C25/18;C07D279/20;C07D333/76;C07D327/08
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 何杨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 抗蚀剂 组合 图案 方法
【权利要求书】:

1.抗蚀剂组合物,包括基础聚合物和具有式(A-1)的锍盐或具有式(A-2)的碘鎓盐:

其中R1为氢、羟基、羧基、硝基、氰基、氟、氯、溴、氨基,或者可含有氟、氯、溴、羟基、氨基或烷氧基部分的直链、支化或环状的C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、C2-C20烷氧基羰基、C2-C20酰氧基或C1-C4烷基磺酰氧基,或者-NR7-C(=O)-R8或-NR7-C(=O)-O-R8;R7为氢,或者可含有卤素、羟基、烷氧基、酰基或酰氧基部分的直链、支化或环状的C1-C6烷基;R8为直链、支化或环状的C1-C16烷基或C2-C16烯基,或者C6-C12芳基,其可含有卤素、羟基、烷氧基、酰基或酰氧基部分,

X1当p=1时为单键或者C1-C20二价连接基团,或者当p=2或3时为C1-C20的三价或四价连接基团,所述连接基团任选地含有氧、硫或氮原子,

Rf1至Rf4各自独立地为氢、氟或三氟甲基,Rf1至Rf4的至少一个为氟或三氟甲基,或者Rf1和Rf2一起可形成羰基,

R2、R3、R4、R5和R6各自独立地为可含有氧代部分的直链、支化或环状的C1-C12烷基,可含有氧代部分的直链、支化或环状的C2-C12烯基,直链、支化或环状的C2-C12炔基,C6-C20芳基,C7-C12芳烷基或者C7-C12芳氧基烷基,在所述C1-C12烷基、C2-C12烯基、C2-C12炔基、C6-C20芳基、C7-C12芳烷基或者C7-C12芳氧基烷基中,至少一个氢可以被羟基、羧基、卤素、氰基、酰胺、硝基、磺内酯、砜或含有锍盐的部分取代,或者其中醚、酯、羰基、碳酸酯或磺酸酯部分可介于碳原子之间,或者R2和R3可键合在一起以与它们结合的硫原子形成环,

m为1-5的整数,n为0-3的整数,并且p为1-3的整数。

2.根据权利要求1的抗蚀剂组合物,还包括有机溶剂。

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