[发明专利]一种以四核钴为节点的框架配位材料及其制备方法

权利要求书

1.一种以四核钴为节点的框架配位材料，其特征在于，所述以四核钴为节点的框架配位材料以正四面体型四核钴为二级构筑单元与配体L进行配位自组装形成三维框架晶体结构，所述以四核钴为节点的框架配位材料化学式为{Co₄O(L)₂(H₂L)₂}·8H₂O·8DMF，化学式中配体L为4-(二-N,N-苯甲酸甲基)氨基苯甲酸根，DMF为N,N-二甲基甲酰胺；

所述以四核钴为节点的框架配位材料的晶体结构参数如下：空间群为P4(2)/n，晶胞参数为a =13.0615 Å，b= 13.0615 Å，c = 24.134 Å，α= 90°，β = 90°，γ= 90°，v = 4476.77Å ³；中心钴离子采取四配位模式，其中三个配位中心被三个4-(二-N,N-苯甲酸甲基)氨基苯甲酸的羧基上的一个氧原子占据，另一个配位点被四连接的氧原子占据，中心氧原子连接四个钴离子，相邻钴离子之间被syn-syn羧基桥连在一起形成稳定的正四面体四核钴结构，每一个4-(二-N,N-苯甲酸甲基)氨基苯甲酸配体利用其三个羧基连接三个四核钴二级构筑单元，形成具有孔隙的网络结构；

所述以四核钴为节点的框架配位材料的制备方法，包括如下步骤：

1）配制反应液：将4-(二-N,N-苯甲酸甲基)氨基苯甲酸与硝酸钴按摩尔比为1: 1.8-2.2加入溶剂中，常温条件下充分搅拌溶解，得到反应液；

2）结晶反应：将步骤1）所得的反应液置于温度为75~95℃的烘箱中反应20-28小时后降温，得到块状紫色晶体，再依次进行过滤、洗涤处理，即得以四核钴为节点的框架配位材料。

2.一种权利要求1所述以四核钴为节点的框架配位材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

1）配制反应液：将4-(二-N,N-苯甲酸甲基)氨基苯甲酸与硝酸钴按摩尔比为1: 1.8-2.2加入溶剂中，常温条件下充分搅拌溶解，得到反应液；

2）结晶反应：将步骤1）所得的反应液置于温度为75~95℃的烘箱中反应20-28小时后降温，得到块状紫色晶体，再依次进行过滤、洗涤处理，即得以四核钴为节点的框架配位材料。

3.如权利要求2所述以四核钴为节点的框架配位材料的制备方法，其特征在于，所述步骤1）中溶剂由N,N-二甲基甲酰胺DMF与水混合配制而成，所述N,N-二甲基甲酰胺与水的体积比为2:0.2-0.5。