[发明专利]基于XRD优选硅质物料的方法及其应用有效
申请号: | 201710518773.2 | 申请日: | 2017-06-29 |
公开(公告)号: | CN107389709B | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
发明(设计)人: | 任雪红;张文生;叶家元;董刚;张洪滔;汪智勇 | 申请(专利权)人: | 中国建筑材料科学研究总院 |
主分类号: | G01N23/20 | 分类号: | G01N23/20;C04B7/02 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王伟锋;刘铁生 |
地址: | 100024*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 xrd 优选 物料 方法 及其 应用 | ||
1.一种基于XRD优选硅质物料的方法,其特征在于:包括,
研磨所述的硅质物料,得到第一粉料;
采用XRD仪器对所述的第一粉料进行测试,得到所述的第一粉料的XRD数据,所述的XRD数据包括衍射峰位和峰强;
计算石英101晶面衍射峰的绝对强度与总强度的比值R;
将所述的XRD数据扣除CuKα2衍射,去背底处理后绘图,得到所述的石英101晶面XRD衍射峰的峰位θX和半高宽Δθ;
将扣除CuKα2衍射和去背底后的XRD数据进行归一化处理,计算石英的101晶面衍射峰强度积分面积A;
计算所述的硅质物料的惰性系数Ds,Ds=R/(A*Δθ*COSθx),
根据所述的惰性系数Ds,选择所述的硅质物料。
2.根据权利要求1所述的一种基于XRD优选硅质物料的方法,其特征在于:
所述的硅质物料中SiO2化学成分含量不低于40%,
当生产中所用原料中包括多种硅质物料时,则混合硅质物料的惰性系数为不同硅质物料系数的复合,
当所述的混合硅质物料包括第一硅质物料和第二硅质物料时,第一硅质物料的质量百分含量为ω1,第一硅质物料的惰性系数为Ds1,第二硅质物料的质量百分含量为ω2,第二硅质物料的惰性系数为Ds2,所述的混合物料的惰性系数Ds=ω1*Ds1+ω2*Ds2;或者,
当所述的生产中所用原料中包括第一硅质物料、第二硅质物料、……、第i硅质物料时,所述的混合硅质物料中,第一硅质物料的质量百分含量为ω1,第一硅质物料的惰性系数为Ds1,第二硅质物料的质量百分含量为ω2,第二硅质物料的惰性系数为Ds2,第i硅质物料的质量百分含量为ωi,第二硅质物料的惰性系数为Dsi,所述的混合硅质物料的惰性系数Ds=ω1*Ds1+ω2*Ds2+……+ωi*Dsi。
3.根据权利要求1所述的一种基于XRD优选硅质物料的方法,其特征在于:
将所述的硅质物料研磨至粒径80μm的筛余小于10%。
4.根据权利要求1所述的一种基于XRD优选硅质物料的方法,其特征在于:
所述的硅质物料为砂岩、石英砂、页岩、高硅粘土、硅石、卵石、黄沙、尾矿和/或废渣。
5.根据权利要求1所述的一种基于XRD优选硅质物料的方法,其特征在于:
所述的硅质物料中的SiO2质量百分含量大于或等于40%。
6.根据权利要求1所述的一种基于XRD优选硅质物料的方法,其特征在于:
所述的归一化处理的处理方法为,令所述的石英101晶面衍射峰强度为100,计算所述的石英的XRD面衍射峰强度积分面积A。
7.根据权利要求1所述的一种基于XRD优选硅质物料的方法,其特征在于:
所述的石英101晶面衍射峰计数点强度大于10000数据点。
8.一种硅质物料的惰性系数,其特征在于:
所述的惰性系数为权利要求1所述的惰性系数Ds。
9.一种硅质物料的惰性系数的应用,其特征在于:
根据权利要求1-7中任一项所述的基于XRD优选硅质物料的方法,得到硅质物料的惰性系数Ds,根据所述的惰性系数Ds的大小,判定所述的硅质物料是否可用于制备水泥或陶瓷,
所述的惰性系数为权利要求8所述。
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