[发明专利]一种纳米压印模板及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及纳米压印技术，尤指一种纳米压印模板及其制备方法。

背景技术

为追求更小特征尺寸，避免光学光刻瓶颈，纳米压印工艺最先被美国明尼苏达大学提出，属于下一代光刻技术，是一种低成本、高效率的纳米级图案转移技术。研究表明压印的最小特征尺寸可以达到10nm。

目前压印所使用的纳米压印模版通常用电子束刻蚀等技术进行制作，无法制作大尺寸的纳米压印模版。而对于大尺寸的显示产品，如果采用小尺寸的纳米压印模板进行压印制作，工艺难度大，效率低，而且制作得到的大尺寸显示产品的质量难以保证。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明至少一实施例提供了一种纳米压印模板及其制备方法，实现大面积纳米压印模板的制作。

为了达到本发明目的，本发明至少一实施例提供了一种纳米压印模板的制备方法，包括：

提供基板，在所述基板上形成遮光条，所述遮光条将所述基板分隔为多个区域，每个区域对应一个待拼接的纳米压印模板单元；

在所述基板及所述遮光条上涂覆压印胶；

将所述纳米压印模板单元压印在其对应的区域的压印胶上；

从所述基板远离所述压印胶的一侧照射紫外光，使得所述压印胶固化；

将所述纳米压印模板单元从所述压印胶上脱模；

去除所述遮光条上未固化的压印胶，以形成所述纳米压印模板。

在本发明一可选实施例中，所述方法还包括，去除所述纳米压印模板上的所述遮光条。

在本发明一可选实施例中，所述遮光条由金属或者黑色树脂组成。

在本发明一可选实施例中，所述金属为铬、钼、铝中的一种或多种。

在本发明一可选实施例中，所述基板上包括多个第一对位标记，所述纳米压印模板单元上包括与所述第一对位标记对应的第二对位标记；

所述将所述纳米压印模板单元压印在其对应的区域的压印胶上包括：

根据所述第一对位标记和第二对位标记将所述纳米压印模板单元与所述基板对位后，将所述纳米压印模板单元压印在其对应的区域的压印胶上。

在本发明一可选实施例中，所述各区域和所述纳米压印模板单元为矩形；

所述第一对位标记为每个所述区域的四个顶点处由遮光条构成的十字标记，所述第二标记为设置在所述纳米压印模板单元的四个顶点处的方框标记；

或者，

所述第一对位标记为设置在每个所述区域的四个顶点处的方框标记，所述第二标记为设置在所述纳米压印模板单元的四个顶点处的十字标记。

在本发明一可选实施例中，将所述纳米压印模板作为母版，进行复制获得由柔性材料制成的纳米压印模板。

在本发明一可选实施例中，通过电子束刻蚀和干刻工艺形成所述纳米压印模板单元；

或者，

通过电子束刻蚀和干刻工艺形成纳米压印模板单元母版后，进行复制获得柔性材料制成的所述纳米压印模板单元。

在本发明一可选实施例中，所述柔性材料为聚二甲基硅氧烷或者含氟聚合物。

本发明一实施例还提供一种使用上述纳米压印模板的制备方法制备的纳米压印模板。

与相关技术相比，本发明至少一实施例中，将多个纳米压印模板单元进行压印拼接得到大面积的纳米压印模板，从而可以实现大面积纳米压印，提高生成效率，降低生产成本，可以支持大尺寸显示产品的制作。

本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

附图说明

附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。

图1为本发明一实施例提供的纳米压印模板的制备方法流程图；

图2(a)～图2(j)为本发明一实施例提供的纳米压印模板的制备方法示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本发明的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。

在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行。并且，虽然在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。