[发明专利]一种触控面板及其制备方法和显示装置

权利要求书

1.一种触控面板的制备方法，其特征在于，包括：

步骤S102：采用纳米打印方法在基底上打印形成纳米级线宽的第一金属电极线；

步骤S103：采用所述纳米打印方法在完成所述步骤S102的所述基底上打印形成纳米级线宽的第二金属电极线；

所述第一金属电极线和所述第二金属电极线相互交叉，能使所述触控面板实现互电容触控；

在所述步骤S102之前还包括：

步骤S101：采用所述纳米打印方法在所述基底上打印形成纳米级线宽的第一消影线；所述第一消影线与所述第一金属电极线形成于所述基底的同一侧；

在所述步骤S102之后且在所述步骤S103之前还包括：

步骤S102′：采用所述纳米打印方法在所述第一金属电极线上打印形成纳米级线宽的第二消影线；

所述第一消影线和所述第二消影线在所述基底上的正投影完全覆盖所述第一金属电极线；

所述第一金属电极线和所述第二金属电极线形成于所述基底的同一侧；

在所述步骤S102′之后且在所述步骤S103之前还包括：

步骤S103′：采用所述纳米打印方法在完成所述步骤S102′的所述基底上打印形成纳米级线宽的第三消影线；所述第三消影线与所述第二金属电极线形成于所述基底的同一侧；

在所述步骤S103之后还包括：

步骤S104：采用所述纳米打印方法在所述第二金属电极线上打印形成纳米级线宽的第四消影线；

所述第三消影线和所述第四消影线在所述基底上的正投影完全覆盖所述第二金属电极线；

或者，所述第一金属电极线和所述第二金属电极线形成于所述基底的不同侧；

在所述步骤S102′之后且在所述步骤S103之前还包括：

步骤S103′：采用所述纳米打印方法在完成所述步骤S102′的所述基底的背对所述第一金属电极线的一侧打印形成纳米级线宽的第三消影线；

在所述步骤S103之后还包括：

步骤S104：采用所述纳米打印方法在所述第二金属电极线上打印形成纳米级线宽的第四消影线；

所述第三消影线和所述第四消影线在所述基底上的正投影完全覆盖所述第二金属电极线；

所述步骤S102和所述步骤S103中的所述纳米打印方法包括：将含金属纳米粒子的油墨放入有机溶剂中制成液体；通过电场将所述液体分散成纳米级直径的液滴；采用1μm直径的喷嘴将所述液滴打印形成所述第一金属电极线和所述第二金属电极线的图形；经过热退火处理去除所述第一金属电极线和所述第二金属电极线的图形中的所述有机溶剂；

所述步骤S101、所述步骤S103′、所述步骤S102′和所述步骤S104中的所述纳米打印方法包括：将含氧、含氮或含氮氧的无机物纳米粒子的油墨放入有机溶剂中制成液体；通过电场将所述液体分散成纳米级直径的液滴；采用设定直径的喷嘴将所述液滴打印形成所述第一消影线、所述第三消影线、所述第二消影线和所述第四消影线的图形；经过热退火处理去除所述第一消影线、所述第三消影线、所述第二消影线和所述第四消影线的图形中的所述有机溶剂。

2.根据权利要求1所述的触控面板的制备方法，其特征在于，打印形成所述第一消影线和所述第三消影线采用的所述喷嘴的直径为2μm；

打印形成所述第二消影线和所述第四消影线采用的所述喷嘴的直径为2μm或3μm。

3.根据权利要求1所述的触控面板的制备方法，其特征在于，形成所述第二消影线的所述无机物纳米粒子在所述液体中的浓度小于形成所述第一消影线的所述无机物纳米粒子在所述液体中的浓度；

形成所述第四消影线的所述无机物纳米粒子在所述液体中的浓度小于形成所述第三消影线的所述无机物纳米粒子在所述液体中的浓度。

4.根据权利要求1或2所述的触控面板的制备方法，其特征在于，所述热退火处理的温度范围为100～350℃，所述热退火处理的时长范围为1～60min。