[发明专利]一种触控面板及其制备方法和显示装置

说明书

本发明提供一种触控面板及其制备方法和显示装置。该触控面板的制备方法包括：步骤S102：采用纳米打印方法在基底上打印形成纳米级线宽的第一金属电极线；步骤S103：采用纳米打印方法在完成步骤S102的基底上打印形成纳米级线宽的第二金属电极线；第一金属电极线和第二金属电极线相互交叉，能使触控面板实现互电容触控。该触控面板的制备方法通过采用纳米打印方法形成第一金属电极线和第二金属电极线，能使第一金属电极线和第二金属电极线的图形和线宽保持一致，避免出现由多个金属膜层构成的金属电极线的图形或线宽不一致的现象，从而不仅避免出现金属电极线拖尾现象和消影不良现象，提升了触控面板的触控性能和触控显示效果。

技术领域

本发明涉及触控显示技术领域，具体地，涉及一种触控面板及其制备方法和显示装置。

背景技术

目前触控透明电极材料主要为氧化铟锡(ITO)，但随着触控面板尺寸的增大，ITO方阻无法满足大尺寸触控面板数据处理的要求。金属触控电极具备优良的导电性能，在中大尺寸的触控面板市场，替代ITO作为触控面板的触控电极成为一种趋势。

但由于金属触控电极的透光效果较差，所以金属触控电极的图形通常设置为较细的线条状；同时，由于金属触控电极通常具有相对较高的光线反射率，所以触控面板上的金属触控电极通常设置为由多个不同材料的金属膜层相互叠覆构成，位于外侧表面的金属膜层在制备时使其具备较低的光线反射率，以对金属触控电极起到显示时的消影作用。传统的金属触控电极的制备方法是通过构图工艺，即通过金属膜层沉积、曝光、显影和刻蚀等的步骤制备形成触控电极的图形。

在金属触控电极的制备过程中，由于构成金属触控电极的多个金属膜层在刻蚀过程中的刻蚀速率不同，刻蚀后金属触控电极容易出现各个金属膜层的图形或线宽不一致的现象，从而造成该触控面板在应用于触控显示时出现金属线拖尾的现象，影响显示效果；同时由于各个金属膜层在刻蚀后的图形或线宽不一致，还会导致起消影作用的外侧表面的金属膜层无法完全遮挡夹设于中间的光线反射率较高的金属膜层，从而造成金属触控电极的消影不良；进而影响触控面板的消影及触控性能，降低触控面板的良率。

发明内容

本发明针对现有技术中存在的上述技术问题，提供一种触控面板及其制备方法和显示装置。该触控面板的制备方法，通过采用纳米打印方法形成第一金属电极线和第二金属电极线，能使第一金属电极线和第二金属电极线的图形和线宽保持一致，避免出现由多个金属膜层构成的金属电极线的图形或线宽不一致的现象，从而不仅避免出现该触控面板在应用于触控显示时的金属电极线拖尾现象，提升了触控面板的触控性能和触控显示效果；而且还能避免出现由多个金属膜层构成的金属电极线的消影不良现象，提高了触控体验。

本发明提供一种触控面板的制备方法，包括：

步骤S102：采用纳米打印方法在基底上打印形成纳米级线宽的第一金属电极线；

步骤S103：采用所述纳米打印方法在完成所述步骤S102的所述基底上打印形成纳米级线宽的第二金属电极线；

所述第一金属电极线和所述第二金属电极线相互交叉，能使所述触控面板实现互电容触控。

优选地，在所述步骤S102之前还包括：

步骤S101：采用所述纳米打印方法在所述基底上打印形成纳米级线宽的第一消影线；所述第一消影线与所述第一金属电极线形成于所述基底的同一侧；

在所述步骤S102之后且在所述步骤S103之前还包括：

步骤S102′：采用所述纳米打印方法在所述第一金属电极线上打印形成纳米级线宽的第二消影线；

所述第一消影线和所述第二消影线在所述基底上的正投影完全覆盖所述第一金属电极线。

优选地，所述第一金属电极线和所述第二金属电极线形成于所述基底的同一侧；