[发明专利]一类5位环取代的具有苯甘氨醇类结构的2,4-二氨基嘧啶类化合物、其制备及用途有效
申请号: | 201710550722.8 | 申请日: | 2017-07-07 |
公开(公告)号: | CN109206375B | 公开(公告)日: | 2023-02-17 |
发明(设计)人: | 张翱;宋子兰;邢莉;魏曼曼 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海药物研究所 |
主分类号: | C07D239/48 | 分类号: | C07D239/48;C07D401/04;C07D403/04;C07D405/04;C07D409/04;C07D405/14;A61K31/506;A61K31/5377;A61P35/02;A61P35/00;A61P19/08 |
代理公司: | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人: | 马莉华;崔佳佳 |
地址: | 201203 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一类 取代 具有 苯甘氨醇类 结构 氨基 嘧啶 化合物 制备 用途 | ||
本发明公开了一类5位环取代的具有苯甘氨醇类结构的2,4‑二氨基嘧啶类化合物、其制备及用途。本发明的化合物结构如通式I所示,各取代基的定义如说明书和权利要求书中所述。本发明的化合物,对Tel‑BaF3‑FLT3及BaF3‑FLT3‑ITD突变细胞表现出显著抑制活性,对Tel‑BaF3‑cKIT细胞活性较弱,表现出很好的选择性,是非常有潜力的FLT3抑制剂。
技术领域
本发明涉及一类5位环取代的具有苯甘氨醇类结构的2,4-二氨基嘧啶类化合物、制备方法及用途。
背景技术
急性髓细胞白血病(AML)是成年人白血病中最常见的一种恶性增殖性疾病,占80-90%。在美国,每年有超过10000人新诊断为白血病,与每年白血病死亡人数相近。目前AML主要治疗方案为化学药物疗法及造血干细胞移植,但是该类治疗方法缺乏持续有效性,年长病人耐受性差,对于60岁以下的病人,5年生存率只有40%。近年来,蛋白激酶抑制剂是抗肿瘤药物研发的热点领域,研究发现,70%以上的AML病人和急性淋巴白血病(ALL)患者体内FMS样酪氨酸激酶3(FLT3)高表达,FLT3与AML的发生、发展密切相关。
FMS样酪氨酸激酶3(FLT3)的基因位于染色体13q12,是一种第三类受体酪氨酸激酶,它与血小板生长因子受体(RDGF)、Kit激酶配体(Kit)、群落刺激因子1受体(CSF-1R)高度同源。FLT3结构由胞外区、近膜区和酪氨酸激酶催化区三部分组成,其中胞外区由5个免疫球蛋白lgG组成,是配体与FLT3结合域。FLT3高表达于正常造血干细胞/祖细胞中,其配体高表达于骨髓基质细胞。FLT3与配体结合后,受体二聚化,同时酪氨酸激酶域磷酸化,使得FLT3激活活化,继而介导一系列下游信号通路,如MAPK、AKT、Ras等信号通路,在细胞的存活、增殖及分化中具有重要作用。
1996年,在AML病人中首次发现近膜区FLT3内部串联重复突变(FLT3-ITD),约23%的AML患者存在这一的突变;之后研究发现,FLT3受体激酶结构域也会出现点突变(FLT3-TKD),最常见的TKD突变发生在密码子835位,它在AML患者中比例约为7%。突变的FLT3能不依赖配体,独自发生二聚化和活化过程,它能活化STAT5信号通路,表明STAT5磷酸化水平可以作为FLT3突变活化的替代性标志物。FLT3突变激酶的持续活化诱导细胞因子依赖的细胞系如Ba/F3、32D细胞自发增殖。已有研究表明,FLT3激活突变是AML中白血球增生和不良预后的重要因素之一,使得AML患者的治疗面临很大的挑战。
鉴于FLT3激活突变导致AML疗效较差的情况,研发靶向FLT3抑制剂已成为抗肿瘤药物研究的热点。FLT3一代抑制剂如Sunitinib,sorafenib,这类抑制剂对FLT3具有抑制作用,但对其它靶点也有很好的活性,选择性较差。选择性相对较高的FLT3二代抑制剂如AC220、PLX3397等已进入临床研究,但是这类抑制剂只表现出短暂的响应,很快出现耐药问题影响疗效。此外,最先进的临床研究化合物如AC220、PKC412具有c-KIT与FLT3激酶双重抑制活性,容易引发合成致死骨髓抑制毒性,存在很大的安全隐患。
因而,设计并筛选出选择性高,活性好并且对FLT3-ITD突变有活性的靶向FLT3抑制剂迫在眉睫。
发明内容
本发明的目的在于提供一种5位环取代的2,4-二氨基嘧啶类化合物,对FLT3及FLT3-ITD具有很高的活性,同时对c-KIT具有很好的选择性,具有优异的研发前景。
本发明的第一方面,提供一种通式I化合物,或其药学上可接受的盐、溶剂化物、代谢物或前药,
式中,*表示消旋、R型或S型;
X为氢、卤素、-NHCOR3、C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、卤代C1-C8烷基;R3为C2-C10烯基、C1-C8烷基;
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