[发明专利]研磨基板的表面的装置和方法

权利要求书

1.一种研磨基板的表面的装置，其特征在于，该装置具有：

基板保持部，该基板保持部保持基板，并使该基板围绕所述基板保持部的轴心旋转；以及

研磨头，该研磨头使研磨器的研磨表面具与所述基板的第一面滑动接触而研磨该第一面，

所述基板保持部具有：能够与所述基板的周缘部接触的多个辊；以及

辊旋转机构，该辊旋转机构使所述多个辊以各辊的轴心为中心旋转，

所述多个辊构成为能够以各辊的轴心为中心旋转，

其中，从所述研磨头的轴心到所述研磨器具的所述研磨表面的最外侧的缘部为止的距离与从所述基板保持部的轴心到所述研磨头的轴心为止的距离的总合比所述基板的半径长。

2.根据权利要求1所述的研磨基板的表面的装置，其特征在于，

该装置还具有基板支承台，该基板支承台对所述基板的与所述第一面相反的一侧的第二面进行支承。

3.根据权利要求1所述的研磨基板的表面的装置，其特征在于，该装置还具有：

冲洗液供给喷嘴，该冲洗液供给喷嘴向所述基板的第一面供给冲洗液；

微粒计数器，该微粒计数器对供给到所述基板的第一面的所述冲洗液进行收集，并测量该冲洗液中包含的粒子的数量；以及

动作控制部，该动作控制部根据所述粒子的数量来决定所述基板的第一面的研磨终点。

4.根据权利要求3所述的研磨基板的表面的装置，其特征在于，

所述研磨终点是所述粒子的数量比阈值低的点。

5.一种研磨基板的表面的方法，其特征在于，

通过一边使多个辊与基板的周缘部接触，一边使所述多个辊以各自的轴心为中心旋转，从而使所述基板围绕基板保持部的轴心旋转，所述基板保持部具有多个辊以及辊旋转机构，该辊旋转机构使所述多个辊以各辊的轴心为中心旋转；并且

使研磨器具的研磨表面与所述基板的第一面滑动接触而研磨该第一面，所述研磨器具由研磨头保持，

其中，从所述研磨头的轴心到所述研磨器具的所述研磨表面的最外侧的缘部为止的距离与从所述基板保持部的轴心到所述研磨头的轴心为止的距离的总合比所述基板的半径长。

6.根据权利要求5所述的研磨基板的表面的方法，其特征在于，

在研磨所述基板的第一面时，所述研磨器具的所述研磨表面的一部分从所述基板的周缘部突出。

7.根据权利要求5所述的研磨基板的表面的方法，其特征在于，

在所述基板的第一面的研磨中，对所述基板的与所述第一面相反的一侧的第二面进行支承。

8.根据权利要求5所述的研磨基板的表面的方法，其特征在于，

研磨所述第一面的工序是一边对所述基板的第一面供给冲洗液，一边使所述研磨器具的所述研磨表面与所述基板的第一面滑动接触而研磨该第一面的工序，

该方法还包含如下的工序：

对供给到所述基板的第一面的所述冲洗液进行收集；

测量该冲洗液中包含的粒子的数量；以及

根据所述粒子的数量来决定所述基板的第一面的研磨终点。

9.根据权利要求8所述的研磨基板的表面的方法，其特征在于，

所述研磨终点是所述粒子的数量比阈值低的点。