[发明专利]一种可扩展连接多台光刻机的涂胶显影设备系统

说明书

本发明涉及半导体生产领域，具体地说是一种可扩展连接多台光刻机的涂胶显影设备系统，包括涂胶显影设备、晶圆传输模块、接口站模块和光刻机，其中各个接口站模块通过晶圆传输模块依次串联，所述光刻机与所述接口站模块一一对应连接，涂胶显影设备与起始端的接口站模块相连，所述接口站模块上设有转移晶圆用的接口站机器人，所述晶圆传输模块内设有晶圆传输机构，所述晶圆传输模块两端分别通过可伸缩的框架长度调节组件与两侧的接口站模块连接。本发明具有模块化结构特点，并通过模块堆叠实现两个或多个光刻机的拓展联机功能，同时还能够适应机台间距安装误差。

技术领域

本发明涉及半导体生产领域，具体地说是一种可扩展连接多台光刻机的涂胶显影设备系统。

背景技术

在前道半导体光刻工艺中，为保证产品质量，往往要把涂胶显影设备与光刻机联机使用，现有技术中通常是一台涂胶显影设备与一台光刻机相连接。但目前市场上存在很多低产能光刻机，由于低产能光刻机找不到与其产能匹配的涂胶显影设备，如果将一台低产能光刻机与一台高产能的涂胶显影设备匹配联机，无疑会造成涂胶显影设备产能浪费，但如果能让多台较低产能光刻机与一台较高产能的涂胶显影设备联机使用，将会有效解决涂胶显影设备产能浪费的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种可扩展连接多台光刻机的涂胶显影设备系统，具有模块化结构特点，并通过模块堆叠实现两个或多个光刻机的拓展联机功能，同时还能够适应机台间距安装误差。

本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：

一种可扩展连接多台光刻机的涂胶显影设备系统，包括涂胶显影设备、晶圆传输模块、接口站模块和光刻机，其中各个接口站模块通过晶圆传输模块依次串联，所述光刻机与所述接口站模块一一对应连接，涂胶显影设备与起始端的接口站模块相连，所述接口站模块上设有转移晶圆用的接口站机器人，所述晶圆传输模块内设有晶圆传输机构，所述晶圆传输模块两端分别通过可伸缩的框架长度调节组件与两侧的接口站模块连接。

所述晶圆传输机构包括上下两层安装座，其中下安装座上表面设有下滑块，下安装座内设有下同步带，且所述下滑块通过所述下同步带旋转带动移动，上安装座与所述下滑块固连，在所述上安装座的上表面设有上滑块，在所述上安装座内设有上同步带，且所述上滑块通过所述上同步带旋转带动移动，在所述上滑块上固设有晶圆吸盘。

在所述下安装座上表面设有下导轨和下滑块，且所述下滑块与下导轨滑动连接。

在所述上安装座的上表面设有上导轨和上滑块，且所述上滑块与所述上导轨滑动连接。

所述框架长度调节组件包括风叠管和设置于所述风叠管两端的连接法兰。

所述接口站模块上设有热处理单元、接口站机器人和边缘曝光单元，晶圆通过所述接口站机器人带动在热处理单元、边缘曝光单元、光刻机接口和晶圆传输模块之间转移。

本发明的优点与积极效果为：

1、本发明设计了两种模块：接口站模块和晶圆传输模块，通过接口站模块与晶圆传输模块的依次连接实现两台或多台光刻机的连机，避免了涂胶显影设备的产能浪费，同时模块化设计也可灵活配置光刻机数量。

2、本发明在晶圆传输模块两端设计了模块长度调节组件，可以实现长度伸缩变化，以适应光刻机间距误差。

3、本发明各模块间可拆分，方便运输。

附图说明

图1为本发明的示意图，

图2为图1中的A向视图，

图3为图1中的框架长度调节组件示意图，

图4为图3中的框架长度调节组件左视图，

图5为图1中的晶圆传输机构示意图。