[发明专利]寡聚苯撑乙烯化合物及其制备方法和应用

说明书

本发明涉及抗肿瘤药物领域，公开了一种寡聚苯撑乙烯化合物及其制备方法和应用。本发明提供的寡聚苯撑乙烯化合物具有如式(3)所示的结构，其中，n为2‑10的整数。本发明提供的结构如式(3)所示的化合物具有良好的抑制肿瘤细胞增殖的作用，特别是对耐药肿瘤细胞的增殖也具有良好的抑制作用，但对正常细胞的毒副作用较小。

技术领域

本发明涉及抗肿瘤药物领域，具体地，涉及一种寡聚苯撑乙烯化合物及其制备方法和应用。

背景技术

我国肿瘤的发病率与死亡率呈快速上升的趋势。肿瘤给患者本人及家庭造成极大痛苦，也占用了大量的社会资源和财富，肿瘤已经成为人类面临的日益严重的公共卫生问题。

在肿瘤治疗领域，化疗耐药的情况经常发生于癌症病人治疗期间，多数药物在使用一段时间后均有产生耐药情况的发现，导致许多肿瘤常规化疗效果差，预后不良等，成为困扰临床的重要难题。起初，患者在化疗治疗方法后的一段时间内可以发生肿瘤缩小或是病情稳定的效果。然而，耐药在数月后有不同程度的发生，出现了针对靶点治疗的效果变差或是丧失，长时间用药或提高剂量也会引起常见并发症，阻碍了长期治疗的成功性，继而癌症细胞持续增殖，患癌部位持续恶化，直至患者死亡。已证明或观察到的耐药机理有：耐药细胞对药物靶点修饰、突变使得药物对靶点亲和性降低，增强药物代谢，增强某一种或某一类药物代谢作用酶表达，增强药物外排等。然而，目前尚没有十分有效的抗耐药肿瘤的药物。

另外，现有的大部分抗肿瘤药物为细胞毒药物，它们不仅对肿瘤细胞有杀害作用，还对人体内的正常细胞也存在较大的细胞毒作用，这将导致严重的用药副反应的发生，甚至影响患者的生存时期。因此，十分有必要研发有效的抗耐药肿瘤的药物，特别是同时对正常细胞毒性较小的抗耐药肿瘤的药物。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术存在的上述缺陷，提供一种寡聚苯撑乙烯化合物及其制备方法和应用。一方面，本发明提供的结构如式(1)和式(2)所示的化合物具有良好的光电性能，在适当的光照条件下具有良好的杀伤肿瘤细胞的作用；同时，由于在特定波长的激光下可以发光，所以本发明提供的上述化合物可以作为用于细胞成像的制剂使用，特别是，式(2)所示的化合物在细胞成像实验中可以快速区分正常细胞与癌细胞，因此其可以作为用于快速区分正常细胞与肿瘤细胞的细胞成像制剂使用。

另一方面，本发明提供的结构如式(3)、式(4)和式(5)所示的化合物均表现出良好的抑制肿瘤细胞增殖的作用，特别是对耐药肿瘤细胞的增殖也具有良好的抑制作用，但对正常细胞的毒副作用较小，这说明本发明提供的上述化合物既具有良好的抗肿瘤(特别是抗耐药肿瘤)作用，又对正常细胞的毒副作用较小，特别适用于抗肿瘤药物(优选抗耐药肿瘤药物)的制备。

为了实现上述目的，一方面，本发明提供了一种寡聚苯撑乙烯化合物，该寡聚苯撑乙烯化合物具有如式(1)-(5)中任意一项所示的结构：

其中，n为2-10的整数；在式(1)中，R₁、R₂、R₃和R₄相同或不同，且各自独立地选自H或胺基保护基团。

第二方面，本发明还提供了一种制备结构如式(1)所示的化合物的方法，该方法包括以下步骤：

(S1)在惰性气氛中，在碱剂的存在下，将通式为X-C_nH_2n-X的二卤代烷烃分别与结构如式(6)和式(7)所示的化合物反应，以分别得到结构如式(8)和(9)所示的化合物；

(S2)分别将结构如式(8)和(9)所示的化合物依次与叠氮化物、三苯基膦和可选的胺基保护剂接触，以分别得到结构如式(10)和(11)所示的化合物；