[发明专利]曝光机及遮光叶片

说明书

本发明提供一种曝光机及遮光叶片。该曝光机通过在第一前遮光叶片的竖直部中设置开口，使得第一前遮光叶片移动时空气可通过所述开口流动，进而减少第一前遮光叶片移动时第一前遮光叶片与光罩保护膜之间的气压下降，避免光罩保护膜被刮蹭，并通过在所述开口的顶部和侧部设置遮光板，避免曝光所用的紫外光从所述开口泄漏出去，保证第一前遮光叶片的遮光效果和曝光机的曝光效果，防止图形异常。

技术领域

本发明涉及显示器制作技术领域，尤其涉及一种曝光机及遮光叶片。

背景技术

在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。

在液晶显示器的Array制程等平板显示器的制程过程中，经常会使用曝光机进行曝光制程，以图案化相应的膜层。现有的曝光机一般包括：光罩载台、对应光罩载台设置的光源、设于所述光罩载台下方的放大光路、设于所述放大光路下方的基板载台、设于所述光罩载台与放大光路之间的第一遮光叶片(Y masking blade)以及设于所述基板载台与放大光路之间的第二遮光叶片(X masking blade)，在曝光前第一遮光叶片与第二遮光叶片会移动到曝光程序(Recipe)设定的位置，遮挡出曝光程序设定的曝光区域，避免已涂布成膜(Coating)的基板其他区域被曝光，导致图形缺失。

如图1所示，现有的曝光机中设有沿水平方向相对设置的第一前遮光叶片101(Ymasking blade Front)和第一后遮光叶片102(Y masking blade Rear)，所述第一前遮光叶片101和第一后遮光叶片102均位于光罩载台200的下方，工作时，光罩300设于所述光罩载台200靠近所述第一前遮光叶片101和第一后遮光叶片102的一侧，且所述光罩300远离所述光罩载台200的一侧设有光罩保护膜400(mask pellicle)。由于光罩保护膜400的底部与第一前遮光叶片101和第一后遮光叶片102的顶部距离极小(通常为3mm)，在第一前遮光叶片101和第一后遮光叶片102运动时可能会引起光罩保护膜400与第一前遮光叶片101和第一后遮光叶片102之间的气压减小，进而导致光罩保护膜400向下弯曲刮蹭到所述第一前遮光叶片101和第一后遮光叶片102的顶部，导致光罩保护膜400损坏，影响曝光制程质量。尤其是在所述曝光机进行光罩光学自动对焦传感器校正(mask OPAF sensor calibration)时，第一前遮光叶片101需要快速移动到第一后遮光叶片102的一侧，这种大范围的快速移动导致的气压下降很大，光罩保护膜400向下弯曲也更严重，出现刮蹭的风险也越大。

发明内容

本发明的目的在于提供一种曝光机，能够减少第一前遮光叶片移动时第一前遮光叶片与光罩保护膜之间的气压下降，避免光罩保护膜被刮蹭，保证曝光质量。

本发明的目的还在于提供一种遮光叶片，能够减少遮光叶片移动时遮光叶片与光罩保护膜之间的气压下降，避免光罩保护膜被刮蹭，保证曝光质量。

为实现上述目的，本发明提供了一种曝光机，包括：光罩载台、光罩、光罩保护膜、第一前遮光叶片及第一后遮光叶片；

所述光罩设于所述光罩载台的下方，所述光罩保护膜遮挡所述光罩远离所述光罩载台的一侧表面，所述第一前遮光叶片及第一后遮光叶片位于所述光罩保护膜远离所述光罩的一侧并与所述光罩保护膜间隔，且所述第一前遮光叶片及第一后遮光叶片沿水平方向相对设置；

所述第一前遮光叶片包括：竖直部、与所述竖直部的底边相连并往远离所述第一后遮光叶片的一侧延伸的第一水平部以及与所述竖直部的顶边相连并往靠近所述第一后遮光叶片的一侧延伸的第二水平部，所述竖直部上设有开口，所述开口的顶部及侧部均设有遮光片。