[发明专利]阵列基板的制备方法、阵列基板、显示面板及显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板的制备方法，所述阵列基板包括多个沿行方向和列方向呈阵列排布的像素单元，所述像素单元包括沿所述行方向交替排布的第一类像素单元和第二类像素单元，所述第一类像素单元和所述第二类像素单元均包括第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元，沿所述行方向顺序排布的相邻的所述第一类像素单元和所述第二类像素单元的第一子像素单元相邻设置，其特征在于，包括：

提供衬底；

在所述衬底上的各子像素单元中形成相互分离的第一电极；

在所述第一电极之间形成像素定义层；

采用第一掩膜板在所述第一电极和所述像素定义层远离所述衬底的一侧形成第一功能层，其中，所述第一掩膜板的开口覆盖全部像素单元；

采用第二掩膜板在所述第一功能层远离所述衬底一侧的所述第一类像素单元的所述第一子像素单元和所述第二子像素单元以及所述第二类像素单元的所述第一子像素单元和所述第二子像素单元中形成第二功能层，其中，所述第二掩膜板中至少有同一开口至少覆盖相邻的两个第一子像素单元；

采用第三掩膜板在所述第一功能层远离所述衬底一侧的所述第一类像素单元的所述第一子像素单元以及所述第二类像素单元的所述第一子像素单元中形成第三功能层，其中，所述第三掩膜板的同一开口覆盖相邻的两个第一子像素单元；

采用第四掩膜板形成覆盖全部像素单元的第四功能层；

在所述第四功能层远离所述衬底的一侧形成第二电极。

2.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述第一类像素单元的第三子像素单元、第二子像素单元和第一子像素单元沿所述行方向顺序排布，所述第二类像素单元的第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元沿所述行方向顺序排布，所述第二掩膜板的同一开口覆盖相邻的两个第一子像素单元，以及与所述相邻的两个第一子像素单元相邻的第二子像素单元。

3.根据权利要求1或2所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述第一电极为阳极，所述第二电极为阴极；

所述第一功能层为空穴注入层，所述第二功能层和所述第三功能层为空穴传输层，所述第四功能层包括白光有机发光层。

4.根据权利要求3所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述第三功能层形成于所述第二功能层远离所述衬底一侧的表面。

5.根据权利要求4所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述第一功能层、所述第二功能层、所述第三功能层和所述第四功能层的厚度满足如下关系：

其中，L1为所述第一功能层的厚度，L2为所述第二功能层的厚度，L3为所述第三功能层的厚度，L4为所述第四功能层的厚度；λ_b为蓝光中心波长，λ_g为绿光中心波长，λ_r为红光中心波长；θ_b为蓝光在所述第一电极和所述第二电极表面的反射相移之和，θ_g为绿光在所述第一电极和所述第二电极表面的反射相移之和，θ_r为红光在所述第一电极和所述第二电极表面的反射相移之和；m为模数；n_b为所述第一功能层和所述第四功能层的平均折射率，n_g为所述第二功能层的折射率，n_r为所述第三功能层的折射率。