[发明专利]阵列基板的制备方法、阵列基板、显示面板及显示装置

说明书

本发明公开了阵列基板的制备方法、阵列基板、显示面板及显示装置，阵列基板包括多个像素单元，像素单元包括沿行方向交替排布第一类像素单元和第二类像素单元，第一类像素单元和第二类像素单元包括第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元，沿行方向顺序排布的相邻第一类像素单元和第二类像素单元的第一子像素单元相邻设置，方法包括：采用第一掩膜板形成第一功能层；采用第二掩膜板在第一功能层上的第一子像素单元和第二子像素单元中形成第二功能层；采用第三掩膜板在第一功能层上的第一子像素单元中形成第三功能层；采用第四掩膜板形成覆盖全部像素单元的第四功能层。本发明降低了精密蒸镀掩膜板的加工精度，降低了工艺成本。

技术领域

本发明实施例属于显示技术领域，涉及一种阵列基板的制备方法、阵列基板、显示面板及显示装置。

背景技术

实现有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)彩色化的技术中，包含有两种主流技术，即微腔效应RGB像素独立发光技术，和白色发光材料配合彩色滤光层技术。

其中，微腔效应RGB像素独立发光需要利用精密蒸镀掩膜板与像素对位技术，制备微腔效应的红、绿、蓝三基色发光中心，实现彩色化，往往需要使用多块精密蒸镀掩膜板，而使用精密蒸镀掩膜板的方法难以确保子像素的定位精度，比较难实现高像素密度的显示面板，而且，精密蒸镀掩膜板价格昂贵，会导致成本增加。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的是提出一种阵列基板的制备方法、阵列基板、显示面板及显示装置，以降低精密蒸镀掩膜板的加工精度，降低工艺成本。

为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板的制备方法，

所述阵列基板包括多个沿行方向和列方向呈阵列排布的像素单元，所述像素单元包括沿所述行方向交替排布的第一类像素单元和第二类像素单元，所述第一类像素单元和所述第二类像素单元均包括第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元，沿所述行方向顺序排布的相邻的所述第一类像素单元和所述第二类像素单元的第一子像素单元相邻设置，包括：

提供衬底；

在所述衬底上的各子像素单元中形成相互分离的第一电极；

在所述第一电极之间形成像素定义层；

采用第一掩膜板在所述第一电极和所述像素定义层远离所述衬底的一侧形成第一功能层，其中，所述第一掩膜板的开口覆盖全部像素单元；

采用第二掩膜板在所述第一功能层远离所述衬底一侧的所述第一子像素单元和所述第二子像素单元中形成第二功能层，其中，所述第二掩膜板至少有同一开口至少覆盖相邻的两个第一子像素单元；

采用第三掩膜板在所述第一功能层远离所述衬底一侧的所述第一子像素单元中形成第三功能层，其中，所述第三掩膜板的同一开口覆盖相邻的两个第一子像素单元；

采用第四掩膜板形成覆盖全部像素单元的第四功能层；

在所述第四功能层远离所述衬底的一侧形成第二电极。

第二方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括：

衬底基板；

多个像素单元，位于所述衬底基板上，所述像素单元沿行方向和列方向呈阵列排布，所述像素单元包括沿所述行方向交替排布的第一类像素单元和第二类像素单元，所述第一类像素单元和所述第二类像素单元均包括第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元，沿所述行方向顺序排布的相邻的所述第一类像素单元和所述第二类像素单元的第一子像素单元相邻设置；

各子像素单元包括相互分离的第一电极，所述第一电极之间形成有像素定义层；