[发明专利]氧化锆陶瓷的研磨方法

权利要求书

1.一种氧化锆陶瓷的研磨方法，其特征在于，包括以下步骤：

采用磨削液和金刚石砂轮对氧化锆陶瓷进行磨削处理4min～6min，制备所述金刚石砂轮的材料包括金刚石磨料，所述金刚石磨料的粒径为80μm～180μm；

采用氮化硼研磨液和铸铁盘对所述氧化锆陶瓷进行粗磨处理5min～6min，所述氮化硼研磨液包括氮化硼微粉，所述氮化硼微粉的粒径为45μm～65μm；

采用第一金刚石研磨液和第一铜盘对所述氧化锆陶瓷进行中磨处理20min～30min；所述第一金刚石研磨液包括第一金刚石微粉，所述第一金刚石微粉的粒径为3μm～9μm；

采用第二金刚石研磨液和第二铜盘对所述氧化锆陶瓷进行精磨处理15min～25min；所述第二金刚石研磨液包括第二金刚石微粉，所述第二金刚石微粉的粒径为0.5μm～3μm；及

采用抛光垫及抛光液对所述氧化锆陶瓷进行抛光处理50min～70min，所述抛光处理至所述氧化锆陶瓷的表面粗糙度Sa为1nm～5nm。

2.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷的研磨方法，其特征在于，制备所述金刚石砂轮的材料还包括金属结合剂及基体；所述金属结合剂选自青铜结合剂和铸铁结合剂中的至少一种；所述基体选自钢、合金钢和铝合金中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷的研磨方法，其特征在于，按质量份数计，所述氮化硼研磨液包括5份～30份的氮化硼微粉、1份～2份的分散剂、0.1份～1份的悬浮剂、0.1份～1份的防锈剂及50份～90份的水。

4.根据权利要求3所述的氧化锆陶瓷的研磨方法啊，其特征在于，所述分散剂选自聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚和三乙醇胺中的至少一种；

及/或，所述悬浮剂选自聚丙烯酰胺、聚丙烯酸、聚丙烯酸钠、丙三醇和甘二醇中的至少一种；

及/或，所述防锈剂选自二甲基甲酰胺、氮氮二甲基乙二胺、氮氮二甲基乙醇胺和氮氮二甲基乙酰胺中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷的研磨方法，其特征在于，所述铸铁盘的材料选自球墨铸铁、灰铸铁、白口铸铁、可锻铸铁及合金铸铁中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷的研磨方法，其特征在于，按质量份数计，所述第一金刚石研磨液包括0.1份～10份的第一金刚石微粉、0.1份～20份的表面活性剂、0.1份～20份的分散剂、0.1份～10份的pH调节剂及40份～70份的油。

7.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷的研磨方法，其特征在于，按质量份数计，所述第二金刚石研磨液包括0.1份～10份的第二金刚石微粉、0.1份～20份的表面活性剂、0.1份～20份的分散剂、0.1份～10份的pH调节剂及40份～70份的油。

8.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷的研磨方法，其特征在于，按质量份数计，制备所述第一铜盘及所述第二铜盘的材料均包括40份～80份的铜粉、0.5份～5份的镍粉、0.5份～5份的铈粉及20份～60份的环氧树脂。

9.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷的研磨方法，其特征在于，所述抛光液选自氧化锆抛光液、氧化铝抛光液和氧化铈抛光液中的至少一种；

及/或，抛光垫选自无纺布抛光垫、阻尼布抛光垫或聚氨酯抛光垫。