[发明专利]氧化锆陶瓷的研磨方法

说明书

本发明涉及一种氧化锆陶瓷的研磨方法。一种氧化锆陶瓷的研磨方法，包括以下步骤：采用磨削液和金刚石砂轮对氧化锆陶瓷进行磨削处理4min～6min；采用氮化硼研磨液和铸铁盘对氧化锆陶瓷进行粗磨处理5min～6min；采用第一金刚石研磨液和第一铜盘对氧化锆陶瓷进行中磨处理20min～30min；采用第二金刚石研磨液和第二铜盘对氧化锆陶瓷进行精磨处理15min～25min；及采用抛光垫及抛光液对氧化锆陶瓷进行抛光处理50min～70min。上述氧化锆陶瓷的研磨方法先进行磨削处理，再经过粗磨处理降低表面粗糙度和平面度，经过中磨处理及精磨处理进一步降低裂纹深度、表面粗糙度和平整度，减小抛光处理时的加工难度，总的加工时间低于130min，加工时间明显降低，提高了加工效率，且加工产品的良率有所提高。

技术领域

本发明涉及氧化锆陶瓷加工技术领域，特别是涉及氧化锆陶瓷的研磨方法。

背景技术

氧化锆陶瓷由于具有高韧性、高抗弯折性和高耐磨性的优点而被广泛应用于结构陶瓷、功能陶瓷及装饰品中，因此，对于氧化锆陶瓷的表面加工工艺也有了更高的要求。然而，氧化锆陶瓷具有硬度高、耐腐蚀、脆性大等性能，使得其研磨抛光变得更为复杂，为达到较高的表面光滑度，常规性的氧化锆陶瓷的研磨抛光加工工艺一般包括粗磨、精磨及抛光三步工序，然而，目前的研磨抛光方法要达到氧化锆陶瓷较好的表面光滑度时往往加工时间较长效率较低，且加工过程中氧化锆陶瓷的脆性大，易被损坏使得产品的良率低。

发明内容

基于此，有必要针对目前氧化锆陶瓷的研磨方法效率较低且加工产品的良率低的问题，提供一种氧化锆陶瓷的研磨方法。

一种氧化锆陶瓷的研磨方法，包括以下步骤：

采用磨削液和金刚石砂轮对氧化锆陶瓷进行磨削处理4min～6min；

采用氮化硼研磨液和铸铁盘对所述氧化锆陶瓷进行粗磨处理5min～6min；

采用第一金刚石研磨液和第一铜盘对所述氧化锆陶瓷进行中磨处理20min～30min；

采用第二金刚石研磨液和第二铜盘对所述氧化锆陶瓷进行精磨处理15min～25min；及

采用抛光垫及抛光液对所述氧化锆陶瓷进行抛光处理50min～70min。

在其中一个实施方式中，制备所述金刚石砂轮的材料包括金刚石磨料、金属结合剂及基体；所述金刚石磨料的粒径为80μm～180μm；所述金属结合剂选自青铜结合剂和铸铁结合剂中的至少一种；所述基体选自钢、合金钢和铝合金中的至少一种。

在其中一个实施方式中，按质量份数计，所述氮化硼研磨液包括5份～30份的氮化硼微粉、1份～2份的分散剂、0.1份～1份的悬浮剂、0.1份～1份的防锈剂及50份～90份的水；所述氮化硼微粉的粒径为45μm～65μm。

在其中一个实施方式中，所述分散剂选自聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚和三乙醇胺中的至少一种；

及/或，所述悬浮剂选自聚丙烯酰胺、聚丙烯酸、聚丙烯酸钠、丙三醇和甘二醇中的至少一种；

及/或，所述防锈剂选自二甲基甲酰胺、氮氮二甲基乙二胺、氮氮二甲基乙醇胺和氮氮二甲基乙酰胺中的至少一种。

在其中一个实施方式中，所述铸铁盘的材料选自球墨铸铁、灰铸铁、白口铸铁、可锻铸铁及合金铸铁中的至少一种。

在其中一个实施方式中，按质量份数计，所述第一金刚石研磨液包括0.1份～10份的第一金刚石微粉、0.1份～20份的表面活性剂、0.1份～20份的分散剂、0.1份～10份的pH调节剂及40份～70份的油；所述第一金刚石微粉的粒径为3μm～9μm。