[发明专利]应用于多结太阳能电池的复合DBR结构及其制备方法有效
申请号: | 201710589539.9 | 申请日: | 2017-07-19 |
公开(公告)号: | CN107221574B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 高熙隆;刘建庆;刘雪珍;毛明明;马涤非;张小宾 | 申请(专利权)人: | 中山德华芯片技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/054 | 分类号: | H01L31/054;H01L31/0725;H01L31/0735;H01L31/18 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 冯炳辉 |
地址: | 528437 广东省中山*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 应用于 太阳能电池 复合 dbr 结构 及其 制备 方法 | ||
本发明公开了一种应用于多结太阳能电池的复合DBR结构及其制备方法,包括按层状结构依次叠加的3~15层AlAs/Alsubgt;x/subgt;Osubgt;y/subgt;/AlGaInAs组合层和5~25层AlInP/AlGaInP组合层,AlAs/Alsubgt;x/subgt;Osubgt;y/subgt;/AlGaInAs组合层和AlInP/AlGaInP组合层的层数总和不超过35层,AlInP/AlGaInP组合层是由层状叠加的AlInP层和AlGaInP层构成,AlAs/Alsubgt;x/subgt;Osubgt;y/subgt;/AlGaInAs组合层是由层状叠加的AlAs/Alsubgt;x/subgt;Osubgt;y/subgt;组合层和AlGaInAs层构成,其中,AlAs/Alsubgt;x/subgt;Osubgt;y/subgt;组合层中的Alsubgt;x/subgt;Osubgt;y/subgt;是由一部分AlAs经过高温湿法氧化而成,且生成的Alsubgt;x/subgt;Osubgt;y/subgt;折射率比余下的AlAs低,从而能拓宽DBR的反射光子范围。本发明可以避免传统DBR结构反射光子能量的范围不够宽,造成E+ΔE范围内一部分高能粒子不能被有效吸收的情况,将DBR本身的优势作用发挥到极致。
技术领域
本发明涉及太阳能光伏发电的技术领域,尤其是指一种应用于多结太阳能电池的复合DBR结构及其制备方法。
背景技术
近年来,不断有通讯报道航空航天科技取得令人瞩目的新成果,说明其相关领域的技术水也在不断进步和提高。其中,空间电源是航天器通信、数据传输、空间观测以及试验研究的能量来源,随着世界宇航业的迅猛发展和空间竞争的不断加剧,对空间主电源提出了更高的要求:长寿命、高功率、耐高温、低成本,这也是空间电源研究和提升的方向。
高效三结GaAs太阳电池与目前广泛使用的硅太阳电池相比,具有更高的光电转换效率、更强的抗辐照能力、更好的耐高温性能、更小的重量,是国际公认最具竞争力的新一代太阳电池,正在航天领域逐步得到广泛应用。但实际上,GaInP/GaAs/Ge三结太阳能电池作为砷化镓多结电池的主流结构,其带隙组合1.85/1.42/0.67eV对于太阳光光谱并不是最佳的,原因在于Ge底电池的短路电流要比中电池和顶电池的大很多,由于串联结构的电流限制原因,造成很大部分底电池电流转换成热量损失掉。为了提高电池性能,途径一是调整优化带隙组成,即通过提高中顶电池的In组分将带隙调整为1.82~1.87/1.3~1.4/0.67eV;途径二是增加电池结数充分吸收利用光谱能量,比如AlGaInP/AlGaInAs/GaInAs/Ga1-3yIn3yNyAs1-y/Ga1-3xIn3xNxAs1-x/Ge六结太阳能电池结构设计。目前,途径一是日渐趋于成熟的技术路线。设计与实验表明,为了将分段光谱能量充分吸收,各子电池厚度必须足够厚,基本在2~3.5微米,这种情况下,太阳能电池在太空环境中受到大量高能粒子辐照,材料质量变差,尤其是砷化物子电池更为严重,导致各子电池性能有不同程度地衰减,最终影响电池整体的性能。
研究表明,在子电池下方加入适当的DBR(Distributed Brag Reflector分布式布拉格反射层)结构可以在很大程度上使问题得到缓解。这是因为通过调节DBR结构反射相应波段的太阳光,可使初次没有被材料吸收的光子反射回去被二次吸收,相当于变相地增加了“有效吸收厚度”,因此该子电池设计厚度得以大幅降低,电池厚度减薄可以使电池的抗辐照性能显著提升,对于材料质量差少子寿命短的材料还可有效提高少子收集数量。
然而,传统DBR结构的反射波段较窄,不能够很好地涵盖子电池的吸收波段,比如带隙组合1.85/1.33/0.67eV三结电池的中子电池,本该吸收波段670~920nm,但由于材料本身性质的限制,传统DBR(一般为AlGaInAs/AlGaInAs组合层)反射波段仅涵盖150nm左右,导致部分光子不能被反射回有源区再次吸收利用。如果用两种DBR范围的组合层材料简单叠加,每套DBR必须生长足够的对数才会达到理想反射效果,这无疑会增加整体DBR厚度,提高外延源耗及时间成本。
发明内容
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山德华芯片技术有限公司,未经中山德华芯片技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710589539.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的