[发明专利]超浅液层种植装置

权利要求书

1.一种超浅液层种植装置，其特征在于，包括：

栽培装置，所述栽培装置的上壁按照预设的规则设置有多个植物定植孔，所述栽培装置的内腔的水位深度被配置为0.3cm-1.5cm；

支架组件，用于安装所述栽培装置；

营养液供给系统，用于给所述栽培装置提供营养液。

2.根据权利要求1所述的超浅液层种植装置，其特征在于，所述栽培装置为由栽培槽和定植板连接而成的封闭结构，所述植物定植孔贯穿所述定植板，所述定植板和所述栽培槽二者之一设置有栽培槽堵头，所述栽培槽堵头通过管路连通所述营养液供给系统。

3.根据权利要求2所述的超浅液层种植装置，其特征在于，所述栽培装置包括用于种植幼苗的幼苗期栽培装置和用于种植成熟植物的成熟期栽培装置，所述幼苗期栽培装置上各所述植物定植孔之间的间距小于所述成熟期栽培装置上各所述植物定植孔之间的间距。

4.根据权利要求3所述的超浅液层种植装置，其特征在于，所述成熟期栽培装置设置在所述幼苗期栽培装置的下方，所述支架组件包括下支架和上支架，所述下支架设置在所述成熟期栽培装置的下方，所述上支架的底部与所述下支架固定，所述上支架的顶部与所述幼苗期栽培装置固定。

5.根据权利要求3所述的超浅液层种植装置，其特征在于，所述成熟期栽培装置的数量为多个并用连接堵头连接，各所述成熟期栽培装置并排连续设置，且各所述成熟期栽培装置高度按照大于等于70:1到小于等于50:1的坡度设置。

6.根据权利要求3所述的超浅液层种植装置，其特征在于，所述幼苗期栽培装置的数量为多个并用连接堵头连接，各所述幼苗期栽培装置并排间隔设置，且各所述幼苗期栽培装置高度按照大于等于70:1到小于等于50:1的坡度设置。

7.根据权利要求2所述的超浅液层种植装置，其特征在于，所述栽培槽的内腔的水位深度被配置为0.5cm-1.0cm。

8.根据权利要求2所述的超浅液层种植装置，其特征在于，营养液供液循环时间设置为每1小时一次循环，供液时间为10分钟到30分钟，对应停滞时间为50分钟到30分钟。

9.根据权利要求2所述的超浅液层种植装置，其特征在于，营养液供液期间液流的流速为：0.02米/秒-0.2米/秒。

10.根据权利要求2所述的超浅液层种植装置，其特征在于，营养液供液期间液流的流量为：0.08升/秒-0.80升/秒。