[发明专利]超浅液层种植装置

说明书

技术领域

本发明涉及植物种植技术领域，具体而言，涉及超浅液层种植装置。

背景技术

无土栽培是当今世界上最先进的栽培技术，由于无土栽培比有土栽培具有许多优点，因此近几年来无土栽培面积发展呈直线上升趋势。无土栽培中用人工配制的营养液，供给植物矿物营养的需要。无土栽培是一种不用天然土壤而采用含有植物生长发育必需元素的营养液来提供营养，使植物正常完成整个生命周期的栽培技术。

无土栽培可使植株生长迅速、健壮，开花多而早、大而香，且抗寒耐暑，病虫害少。很多作物，例如大豆、菜豆、豌豆、小麦、水稻、燕麦、甜菜、甘蓝、番茄、黄瓜等，无土栽培的产量都比土壤栽培的高。

一般无土栽培的类型包括固体基质培和非固体基质培。非固体基质培包括水培和雾培，而水培是指植物根系直接与营养液接触而不用基质的栽培方法，包括深液流技术和浅液流技术。

目前采用比较多的无土栽培技术包括雾培、深液流技术和浅液流技术。即使在浅液流技术中，营养液的深度也要求4.0cm以上，并且在现有技术中，认为如果低于4.0cm，可能吸收不到足够的营养，不利于植物的生长。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明提供了超浅液层种植装置。具体地，其技术方案如下：

一种超浅液层种植装置，包括：

栽培装置，所述栽培装置的上壁按照预设的规则设置有多个植物定植孔，所述栽培装置的内腔的水位深度被配置为0.3cm-1.5cm；

支架组件，用于安装所述栽培装置；

营养液供给系统，用于给所述栽培装置提供营养液。

作为对技术方案的改进，所述栽培装置为由栽培槽和定植板连接而成的封闭结构，所述植物定植孔贯穿所述定植板，所述定植板和所述栽培槽二者之一设置有栽培槽堵头，所述栽培槽堵头通过管路连通所述营养液供给系统。

作为对技术方案的改进，所述栽培装置包括用于种植幼苗的幼苗期栽培装置和用于种植成熟植物的成熟期栽培装置，所述幼苗期栽培装置上各所述植物定植孔之间的间距小于所述成熟期栽培装置上各所述植物定植孔之间的间距。

作为对技术方案的改进，所述成熟期栽培装置设置在所述幼苗期栽培装置的下方，所述支架组件包括下支架和上支架，所述下支架设置在所述成熟期栽培装置的下方，所述上支架的底部与所述下支架固定，所述上支架的顶部与所述幼苗期栽培装置固定。

作为对技术方案的改进，所述成熟期栽培装置的数量为多个并用连接堵头连接，各所述成熟期栽培装置并排连续设置，且各所述成熟期栽培装置高度按照大于等于70:1到小于等于50:1的坡度设置。

作为对技术方案的改进，所述幼苗期栽培装置的数量为多个并用连接堵头连接，各所述幼苗期栽培装置并排间隔设置，且各所述幼苗期栽培装置高度按照大于等于70:1到小于等于50:1的坡度设置。

作为对技术方案的改进，所述栽培槽的内腔的水位深度被配置为0.5cm-1.0cm。

作为对技术方案的改进，营养液供液循环时间设置为每1小时一次循环，供液时间为10分钟到30分钟，对应停滞时间为50分钟到30分钟。

作为对技术方案的改进，营养液供液期间液流的流速为：0.02米/秒-0.2米/秒。

作为对技术方案的改进，营养液供液期间液流的流量为：0.08升/秒-0.80升/秒。

本发明至少具有以下有益效果：

采用本发明的超浅液层种植装置，由于根系与土壤隔离，可避免各种土传病害，也无需进行土壤消毒，而且与深液流技术和浅液流技术相比，植物的生长更好。

利用超浅液层种植装置不仅省水、省肥，而且种植的作物生长发育健壮、生长势强、产量更高。

为使本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1示出了本发明实施例所提供的超浅液层种植装置的第一示意图；

图2示出了本发明实施例所提供的超浅液层种植装置的第二示意图；

图3示出了本发明实施例所提供的超浅液层种植装置的第三示意图；

图4示出了本发明实施例所提供的定植板的第一示意图；