[发明专利]一种多源斜插式等离子体气体处理装置有效
申请号: | 201710592292.6 | 申请日: | 2017-07-19 |
公开(公告)号: | CN107281912B | 公开(公告)日: | 2019-12-27 |
发明(设计)人: | 陈挺;刘文龙;周磊;徐晨 | 申请(专利权)人: | 浙江全世科技有限公司 |
主分类号: | B01D53/74 | 分类号: | B01D53/74 |
代理公司: | 31236 上海汉声知识产权代理有限公司 | 代理人: | 叶龙飞;胡晶 |
地址: | 310053 浙江省杭州市滨江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体源 气体处理区 气体处理腔 等离子体 进气通道 吸收装置 插入口 减速腔 排气 等离子体气体 充分接触 处理气体 处理装置 气体处理 周向设置 上端 大流量 夹角为 斜插式 易维护 中心轴 层式 多源 进气 腔体 锐角 下端 连通 利率 维修 | ||
本发明公开了一种多源斜插式等离子体气体处理装置,包括进气通道、减速腔、气体处理区、排气吸收装置和等离子体源,气体处理区的上端依次连有减速腔和进气通道,气体处理区的下端连有排气吸收装置;气体处理区包括若干个层式连接的气体处理腔,沿每个气体处理腔的周向设置若干排连通其腔体的等离子体源插入口,等离子体源插入口上设有等离子体源,其中,等离子体源的轴线与气体处理腔的中心轴所成的夹角为锐角。本发明在大流量的进气情况下,多个等离子体源同时工作,且各等离子体与待处理气体可以充分接触,大大提高了等离子体的气体处理效果和效率,具有结构简单,空间利率高,易维护和维修的优点。
技术领域
本发明属于气体处理和大气净化技术领域,特别涉及一种多源斜插式等离子体气体处理装置。
背景技术
随着我国工业快速发展,全国范围内大气污染程度日趋严峻,大部分地区经常性的出现持续大范围雾霾天气。目前,主要的大气净化方法和技术主要有液体吸收法、吸附法、热氧化、生物处理法、冷凝法和等离子体技术,其中,等离子体技术实现大气净化的原理如下:
(1)通过碰撞,高能电子把能量传递给其他粒子,获得能量的其他粒子被激发,同时也有一些粒子被电离成活性基团;
(2)活性基团从高能激发态跃迁并产生紫外光,紫外光与有害气体成分发生反应从而使气体分子键断裂;
(3)活性粒子能够直接降解有机废气中的有害物质,并可与有机废气中所含其它分子作用并产生新的激发态物质,从而将有害物降解为二氧化碳和水等无害物质。
通过上述原理可以发现,等离子体技术进行大气净化的过程实际上是能量的传递和转换过程。目前的等离子气体处理装置,一般采用进气方向与等离子体炬焰成垂直或水平夹角。当进气方向与等离子体炬焰成垂直夹角时,等离子体能量利用高,但所能承受的气流量低,大流量情况时,甚至会出现等离子体炬焰被吹熄的问题,致使单位等离子体装置的平均处理速率较低;当进气方向与等离子体炬焰成水平夹角时,所能承受的气流量较大,但等离子体能量利用率低。
因此,现有技术为了提高气体处理量,一般采用大腔室内炬阵式排列多个等离子体同时工作来提高气体的处理速率,但由于空间内气体无法与等离子体充分接触,导致气体处理不充分,处理效果差的问题;和,为了提高气体的处理效果,一般采用多个等离子体炬阵式处理腔室串联、并联或串并联相结合的方式,即第一个等离子体炬阵处理腔室出来的气体通入第二炬阵式处理腔室再次进行处理,这样导致了气体处理装置体积大且结构复杂,维护成本很高。
发明内容
本发明提供一种多源斜插式等离子体气体处理装置,通过将多个等离子体源斜插于气体处理区的腔内,形成多源斜插式结构,通过该多源斜插式结构解决传统等离子装置中存在的气流速承受能力弱、处理效率低、效率差、结构复杂等问题。
本发明的技术方案如下:
一种多源斜插式等离子体气体处理装置,包括进气通道、减速腔、气体处理区、排气吸收装置和等离子体源,所述的气体处理区的上端依次连有所述的减速腔和所述的进气通道,所述的气体处理区的下端连有所述的排气吸收装置;
所述的气体处理区包括若干个层式连接的气体处理腔,沿每个所述的气体处理腔的周向设置若干排连通其腔体的等离子体源插入口,所述的等离子体源插入口上设有所述的等离子体源,其中,所述的等离子体源的轴线与所述的气体处理腔的中心轴所成的夹角为锐角;
待处理的气体沿所述的进气通道进入所述的减速腔,减速后进入所述的气体处理区,经多级所述的等离子体源处理,进入所述的排气吸收装置吸收处理后,排出至外界。
优选为,设置在所述的气体处理腔上的所述的等离子体源插入口,其相连两排之间为交叉排列设置。
优选为,每个所述的气体处理腔上设有一排所述的等离子体源插入口。
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