[发明专利]调节光学装置的方法有效
申请号: | 201710604021.8 | 申请日: | 2017-07-13 |
公开(公告)号: | CN107621756B | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | J·拜耳;S·弗里切;F·施罗德 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军;王蕊瑞 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调节 光学 装置 方法 | ||
一种调节尤其是光刻设备(100A、100B)的光学装置(200)的方法,所述光学装置包括可移动部件(326,700)、参考部件(318,346,702)和光学部件(202,706),其中可移动部件(326,700)由机械操作连接件(328,704)连接到光学部件(202,706),该方法包括以下步骤:a)将可移动部件(326,700)关于参考部件(318,346,702)固定在机械限定的位置(NP)(S1),b)光学测量光学部件(202,706),以获取光学测量结果(OM)(S2),以及c)根据光学测量结果(OM)调节光学装置(200)(S8)。
技术领域
本发明涉及一种调节光学装置,尤其是光刻设备的光学装置的方法。
背景技术
微光刻用于制造微结构化部件,比如集成电路。用光刻设备执行微光刻工艺,光刻设备包括照明系统和投射系统。通过照明系统照明的掩模(掩模母版)的像在此情况下通过投射系统投射到涂布有光敏感层(光致抗蚀剂)且布置在投射系统的像平面中的基板(即,硅晶片)上,以将掩模结构转印到基板的光敏感涂层。
由在集成电路的制造中对于越来越小的结构的期望的驱使,当前正在研究的EUV光刻设备采用具有范围为0.1nm至30nm的波长的光,尤其是13.5nm。在这样的EUV光刻设备的情况下,由于具有此波长的光受大多数材料的高吸收,必须使用反射光学单元(也就是说反射镜)取代(如早前的)折射光学单元(也就是说透镜元件)。
反射镜可以实施为所谓的分面反射镜,其中这样的分面反射镜通常在每个情况下具有数百个分面。每个分面被分配驱动装置,例如洛伦兹致动器,相应的分面借助于驱动装置可倾斜。在此情况下,电磁致动器致动驱动柱塞上提供的磁体元件,驱动柱塞还承载分面。由于安装和制造公差,使驱动装置的部件关于彼此对准是复杂的。
DE 10 2014 216 075 A1描述了包括至少一个单独的反射镜的反射镜布置,至少一个单独的反射镜具有反射镜体、轴、承载结构以及致动器,其中反射镜体连接到轴且以可偏转方式从承载结构悬挂,其中致动器具有驱动元件,其布置在轴上且产生电场和/或磁场,以及驱动系统,其在驱动元件上施加第一力,以偏转反射镜体,其中,在反射镜体的偏转的状态下,指向轴的非偏转的位置的恢复力作用在轴上,并且其中单独的反射镜还具有用于屏蔽电场和/或磁场的屏蔽元件以及补偿系统,以产生第二力,其叠加在恢复力上。
DE 10 2012 223 034 A1公开了包括分面反射镜的微光刻投射曝光设备的照明系统,分面反射镜具有承载结构和从而承载的多个单独可调节的反射镜分面。经由弯曲部,反射镜分面连接到承载结构,使得其关于两个正交轴可倾斜。反射镜分面还刚性地连接到致动杆,使得通过致动器产生的致动杆的偏转,使反射镜分面关于轴倾斜。每个弯曲部包括至少三个接合支架,接合支架布置在致动杆周围,并且在一端紧固到承载结构且在另一端紧固到反射镜分面或部分刚性地与其连接,其中在致动杆偏转时,接合支架弯曲。
WO 2014/060169 A1描述了光刻设备,其包括多重的可调节反射镜。每个反射镜由致动器可驱动,致动器具有可移动部件和外壳。借助于致动器,相应的反射镜相对于外壳以两个自由度可倾斜。
发明内容
在此背景下,本发明的目标是提供调节光学装置的改善的方法。
相应地,提出了一种调节光学装置的方法,尤其是调节光刻设备的光学装置的方法,光学装置包括可移动部件、参考部件以及光学部件,其中可移动部件以机械操作连接件连接到光学部件。所述方法包括以下步骤:a)将可移动部件关于参考部件固定在机械限定的位置,b)光学测量光学部件,以获取光学测量结果,以及c)根据光学测量结果调节光学装置。
通过调节光学装置实现的是,可以同时达到光学部件的光学有效表面的光学零位置和可移动部件的零位置,也就是说机械零位置。也就是说,为达到光学零位置,可移动部件不必已经被偏转。因此,为达到光学零位置,也不必对可移动部件施加调节力。因此,光学部件可倾斜的可达到角度范围最大化,或用于驱动可移动部件的致动器的相应地能量消耗最小化。
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