[发明专利]阵列基板检测设备和阵列基板检测方法

权利要求书

1.一种阵列基板检测设备，其特征在于，包括：光发射装置、光束导向装置、透镜组、液晶调制器和图像采集装置；

其中，所述光发射装置构造为向所述光束导向装置发射光束；所述液晶调制器包括液晶材料和设置于所述液晶材料一侧的反射面；所述光束导向装置构造为将所述光发射装置所发射的光束导向至所述液晶调制器，并将所述液晶调制器中的所述反射面反射回来的光束导向至所述图像采集装置；

其中，所述透镜组设置在所述光束导向装置与所述液晶调制器之间的光学路径上，构造为将所述光束导向装置导向至所述液晶调制器的光束的光照范围聚集在与待检测的阵列基板的像素区域等效的区域范围，以及扩散所述液晶调制器中的所述反射面反射回来的光束。

2.根据权利要求1所述的阵列基板检测设备，其特征在于，所述透镜组包括：至少两个透镜以及伸缩驱动机构；

其中，所述至少两个透镜的光轴相互重合，所述伸缩驱动机构构造为分别驱动所述至少两个透镜沿着所述光轴移动。

3.根据权要求2所述的阵列基板检测设备，其特征在于，所述伸缩驱动机构包括外筒、至少两个内筒以及至少两个驱动电机；

其中，所述至少两个内筒以螺纹配合的方式套接于所述外筒内部，所述至少两个透镜分别设置于所述至少两个内筒中；

其中，所述至少两个驱动电机分别驱动所述至少两个内筒旋转，以使得所述至少两个透镜沿着所述光轴移动。

4.根据权利要求1所述的阵列基板检测设备，其特征在于，所述光束导向装置为第一分光镜。

5.根据权利要求1所述的阵列基板检测设备，其特征在于，进一步包括：设置在所述光发射装置和所述光束导向装置之间的光学路径上的第二分光镜。

6.根据权利要求1所述的阵列基板检测设备，其特征在于，进一步包括：

图像分析装置，构造为通过分析所述图像采集装置所采集到的图像信息来获取阵列基板上的缺陷信息。

7.根据权利要求1所述的阵列基板检测设备，其特征在于，所述图像采集装置为电荷耦合器件摄像机。

8.根据权利要求1所述的阵列基板检测设备，其特征在于，进一步包括：阵列基板承载装置，设置在所述液晶调制器下方，用于承载待检测的阵列基板。

9.一种基于如权利要求1至8中任一所述的阵列基板检测设备的阵列基板检测方法，其特征在于，包括：

将待检测的阵列基板置于所述阵列基板检测设备的所述液晶调制器下方；

对所述阵列基板进行通电，通过所述透镜组将所述光束导向装置导向至所述液晶调制器的光束的光照范围聚集在与所述阵列基板的像素区域等效的区域范围；以及

根据所述图像采集装置所采集到的图像信息获取所述阵列基板上的缺陷信息。

10.根据权利要求9所述的阵列基板检测方法，其特征在于，所述阵列基板检测设备的透镜组包括：至少两个透镜以及伸缩驱动机构；其中，所述至少两个透镜的光轴相互重合，所述伸缩驱动机构构造为分别驱动所述至少两个透镜沿着所述光轴移动；

其中，所述通过所述透镜组将所述光束导向装置导向至所述液晶调制器的光束的光照范围聚集在与所述阵列基板的像素区域等效的区域范围内包括：

通过所述伸缩驱动机构调整所述至少两个透镜在所述光轴上的位置，以将所述光束导向装置导向至所述液晶调制器的光束的光照范围聚集在与所述阵列基板的像素区域等效的区域范围。