[发明专利]LTPS阵列基板及内嵌式触摸屏在审
申请号: | 201710607834.2 | 申请日: | 2017-07-24 |
公开(公告)号: | CN107315296A | 公开(公告)日: | 2017-11-03 |
发明(设计)人: | 吕绍卿 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1368 | 分类号: | G02F1/1368;G02F1/1333;G06F3/041 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | ltps 阵列 内嵌式 触摸屏 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域,尤其涉及一种LTPS阵列基板及具有所述LTPS阵列基板的内嵌式触摸屏。
背景技术
低温多晶硅(low temperature poly-silicon,简称为LTPS)薄膜晶体管液晶显示器有别于传统的非晶硅薄膜晶体管液晶显示器,其电子迁移率可以达到200cm2/V-sec以上,可有效减小薄膜晶体管器件的面积,从而达到提高开口率,并且在增进显示器亮度的同时还可以降低整体的功耗。另外,较高的电子迁移率可以将部分驱动电路集成在玻璃基板上,减少了驱动IC(integrated circuit,集成电路),还可以大幅提升液晶显示面板的可靠度,从而使得面板的制造成本大幅降低;因此,LTPS薄膜晶体管液晶显示器逐步成为研究的热点。
正常架构的LTPS阵列基板,在制备完薄膜晶体管的源极金属与漏极金属之后,在其上沉积平坦化层,然而平坦化层为有机高分子材料,在高温、高湿的制备环境中易吸收空气中的水汽,与平坦化层接触的源极金属与漏极金属受水汽腐蚀而导致线路短路,进而影响液晶显示面板的显示效果。
发明内容
本发明提供一种LTPS阵列基板,能够将薄膜晶体管的源/漏极金属与平坦化层隔绝,保护源/漏极金属免受水汽腐蚀,以解决现有的LTPS阵列基板,薄膜晶体管的源/漏极金属与易吸收水汽的平坦化层直接接触,导致源/漏极金属受水汽腐蚀而导致线路短路,进而影响液晶显示面板的显示效果的技术问题。
为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:
本发明提供一种LTPS阵列基板,包括:设置于阵列基板中间的显示区域,以及设置于所述阵列基板边缘的非显示区域;所述显示区域内阵列分布有薄膜晶体管;
所述阵列基板包括:
玻璃基板;
LTPS器件,制备于所述玻璃基板表面;所述LTPS器件包括有源层,所述有源层包括沟道区、位于所述沟道区一侧的源极掺杂区、以及位于所述沟道区相对另一侧的漏极掺杂区;
栅绝缘层,制备于所述缓冲层表面;
栅极金属、栅线,所述栅极金属和所述栅线均形成于所述栅绝缘层表面,所述栅极金属与所述栅线连接;
间绝缘层,制备于所述栅绝缘层表面;
源极金属、漏极金属、数据线,形成于所述间绝缘层表面,所述源极金属、所述漏极金属和所述数据线均位于所述显示区,所述源极金属通过源极通孔连接于所述源极掺杂区,所述漏极金属通过漏极通孔连接于所述漏极掺杂区;
保护层,制备于所述间绝缘层表面,且覆盖所述源极金属、所述漏极金属与所述数据线;
平坦化层,制备于所述保护层表面;
其中,所述保护层用于防止穿透所述平坦化层的水汽与所述源极金属、所述漏极金属、所述数据线中的至少一者接触。
根据本发明一优选实施例,所述保护层为氮化硅薄膜。
根据本发明一优选实施例,所述保护层的膜厚为90nm~110nm。
根据本发明一优选实施例,所述阵列基板还包括:
第一介质层,制备于所述平坦化层表面;所述第一介质层表面形成有感应电极线;
第二介质层,制备于所述第一介质层表面;
公共电极层,制备于所述第二介质层表面;所述公共电极层经图形化处理形成相互绝缘的公共电极板;每一所述公共电极板,通过感应电极通孔连接相对应的所述感应电极线,每一所述感应电极线通过过孔结构连接相对应的触控信号连接线的一端,所述触控信号连接线的另一端连接至触控芯片;
钝化层,制备于所述第二介质层表面;
像素电极,形成于所述钝化层表面,每一所述像素电极通过一像素电极通孔连接至相对应的所述漏极金属。
根据本发明一优选实施例,所述保护层采用等离子体增强化学气相沉积工艺制备于所述间绝缘层表面。
依据本发明的上述目的,提出一种内嵌式触摸屏,包括:
彩膜基板;
阵列基板,与所述彩膜基板相对设置;包括设置于所述阵列基板中间的显示区域,以及设置于所述阵列基板边缘的非显示区域;所述显示区域内阵列分布有薄膜晶体管;
液晶层,设置于所述彩膜基板与所述阵列基板之间;
所述阵列基板包括:
玻璃基板;
LTPS器件,制备于所述玻璃基板表面;所述LTPS器件包括有源层,所述有源层包括沟道区、位于所述沟道区一侧的源极掺杂区、以及位于所述沟道区相对另一侧的漏极掺杂区;
栅绝缘层,制备于所述缓冲层表面;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710607834.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种不易晃动的无芯绕丝机
- 下一篇:一种便于加工的多功能电钻的工作方法