[发明专利]一种芯片结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201710610960.3 申请日: 2017-07-25
公开(公告)号: CN107393817A 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 王杰 申请(专利权)人: 江苏长电科技股份有限公司
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304;H01L21/306;H01L21/3065;H01L21/308;H01L21/67;H01L21/683;H01L29/06
代理公司: 江阴市扬子专利代理事务所(普通合伙)32309 代理人: 周彩钧
地址: 214434 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 芯片 结构 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种芯片结构,其特征在于:它包括芯片本体(1),所述芯片本体(1)侧面X、Y方向设置有沟槽(2)。

2.根据权利要求1所述的一种芯片结构,其特征在于:沟槽(2)是弧形的。

3.一种芯片结构的制造方法,其特征在于所述方法包括以下步骤:

步骤一、准备一晶圆,在晶圆背面贴覆一层蓝膜,晶圆正面贴覆一层干膜并通过曝光显影将晶圆切割道露出;

步骤二、晶圆正面切割,沿着切割道将晶圆切成单颗芯片,切割成单颗的芯片仍然粘附在蓝膜上;

步骤三、将芯片进行蚀刻,将芯片侧面X、Y方向蚀刻出弧形沟槽;

步骤四、整面芯片的正面曝光显影,去除芯片正面的干膜;

步骤五、整片切割好的芯片出货,封装厂正常流程作业。

4.根据权利要求3所述的一种芯片结构的制造方法,其特征在于:步骤二中切割刀的宽度小于切割道的宽度。

5.根据权利要求3所述的一种芯片结构的制造方法,其特征在于:步骤四中蚀刻的方式是湿法蚀刻、等离子体蚀刻或气体蚀刻。

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