[发明专利]一种湿制程机台的腔室有效
申请号: | 201710611727.7 | 申请日: | 2017-07-25 |
公开(公告)号: | CN107424945B | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 杨坤 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B08B9/093 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 钟子敏 |
地址: | 518006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 湿制程 机台 | ||
1.一种湿制程机台的腔室,所述腔室设置有向其提供第一溶液的第一管道,其特征在于,所述腔室包括:
清洁装置,与所述第一管道连通,以使得所述第一管道可以向所述清洁装置提供用于清洁所述腔室的第二溶液,所述清洁装置包括清洁管道,所述清洁管道设置在所述腔室内,所述清洁管道上设置有多个喷淋件,当所述清洁装置对所述腔室进行清洁时,所述清洁装置通过所述多个喷淋件可以对所述腔室进行无死角的清洁;
所述清洁管道包括第一清洁管道和第二清洁管道;所述第一清洁管道设置于所述腔室的上端,所述第二清洁管道设置于所述腔室的下端,所述第一清洁管道与所述第二清洁管道一一对应设置;
所述清洁装置还包括第一承载轴和第二承载轴;所述第一承载轴用于承载两条平行设置的所述第一清洁管道,其中,所述第一承载轴为中空结构,所述第一清洁管道通过所述第一承载轴与所述第一管道连通;所述第二承载轴用于承载两条平行设置的所述第二清洁管道,其中,所述第二承载轴为中空结构,所述第二清洁管道通过所述第二承载轴与药液循环管道连通;
所述清洁装置还包括连接管道,所述连接管道的两端分别与所述第一承载轴和所述第二承载轴连通,使得所述第一清洁管道与所述第二清洁管道通过所述第一承载轴、所述连接管道以及所述第二承载轴连通;所述连接管道还与所述药液循环管道连通,以使得所述药液循环管道中的药液可流入至所述第一承载轴以及所述第二承载轴,进而流入至所述第一清洁管道以及所述第二清洁管道,并由所述喷淋件喷洒出来。
2.根据权利要求1所述的腔室,其特征在于,所述喷淋件为喷淋头,所述多个喷淋头在所述清洁管道上呈螺旋环绕式分布。
3.根据权利要求1所述的腔室,其特征在于,所述清洁装置还包括:
驱动机构,所述驱动机构设置在所述腔室外,与所述清洁管道连接,用于驱动所述清洁管道绕所述清洁管道的轴线旋转,进而使所述清洁装置通过所述多个喷淋件可以对所述腔室进行无死角的清洁。
4.根据权利要求3所述的腔室,其特征在于,所述驱动机构包括依次连接的旋转马达、齿轮以及传动组件,其中,所述传动组件与所述清洁管道连接。
5.根据权利要求1所述的腔室,其特征在于,所述第一管道为补水管道。
6.根据权利要求5所述的腔室,其特征在于,所述补水管道上设置有第一阀门,所述药液循环管道上设置有第二阀门,所述第一阀门与所述第二阀门可以交替间隔开关。
7.根据权利要求1所述的腔室,其特征在于,所述清洁管道为耐高温、耐强酸强碱的材料制成;所述用于清洁所述腔室的第二溶液包括去离子水、中性洗净剂溶液、四甲基氢氧化铵TMAH溶液中的至少一种。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710611727.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:无人驾驶车辆综合性能测试系统
- 下一篇:一种车辆轮胎扬尘模拟实验装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造