[发明专利]一种超薄Rh纳米片组成的纳米花的制备方法有效
申请号: | 201710612608.3 | 申请日: | 2017-07-25 |
公开(公告)号: | CN107234246B | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 陈煜;刘慧敏;汉术和 | 申请(专利权)人: | 陕西师范大学 |
主分类号: | B22F9/24 | 分类号: | B22F9/24;B22F1/00;B01J23/46;B01J35/02;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 西安永生专利代理有限责任公司 61201 | 代理人: | 高雪霞 |
地址: | 710062 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米花 纳米片 制备 合成氨 前驱体 还原法 电催化活性 电化学 尺寸均一 催化反应 形状规则 原料合成 钴氰化钾 分散性 还原剂 氯化铑 甲醛 还原 应用 | ||
1.一种超薄Rh纳米片组成的纳米花的制备方法,其特征在于它由下述步骤组成:
(1)制备RhCl3-K3Co(CN)6氰胶
将RhCl3水溶液和K3Co(CN)6水溶液混合均匀,在75~100℃下加热反应20~36小时,得到RhCl3-K3Co(CN)6氰胶;所述RhCl3水溶液中RhCl3的浓度为0.025~0.3mol/L,K3Co(CN)6水溶液中K3Co(CN)6的浓度为0.025~0.3mol/L,RhCl3与K3Co(CN)6的摩尔比为1:0.25~2;
(2)制备超薄Rh纳米片组成的纳米花
将RhCl3-K3Co(CN)6氰胶与甲醛水溶液按体积比为1.5~5:1混合,在160~190℃下还原反应10~16小时,反应结束后冷却、离心、洗涤、干燥,得到超薄Rh纳米片组成的纳米花。
2.根据权利要求1所述的超薄Rh纳米片组成的纳米花的制备方法,其特征在于:步骤(1)中,所述RhCl3水溶液中RhCl3的浓度为0.05~0.15mol/L,K3Co(CN)6水溶液中K3Co(CN)6的浓度为0.05~0.15mol/L,RhCl3与K3Co(CN)6的摩尔比为1:0.5~1。
3.根据权利要求1或2所述的超薄Rh纳米片组成的纳米花的制备方法,其特征在于:步骤(1)中,在90~95℃下还原反应24小时。
4.根据权利要求1所述的超薄Rh纳米片组成的纳米花的制备方法,其特征在于:步骤(2)中,所述RhCl3-K3Co(CN)6氰胶与甲醛水溶液的体积比为2~4:1。
5.根据权利要求1或4所述的超薄Rh纳米片组成的纳米花的制备方法,其特征在于:所述甲醛水溶液中甲醛的质量浓度为20%~40%。
6.根据权利要求5所述的超薄Rh纳米片组成的纳米花的制备方法,其特征在于:步骤(2)中,在180℃下还原反应12小时。
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