[发明专利]一种重离子核孔铜箔的制作方法

说明书

本发明公开了一种重离子核孔铜箔的制作方法，包括以下步骤：(1)辐照：将厚度≤60mm的铜箔用重离子加速器辐照，形成潜径迹，得到潜径迹铜箔；(2)制备蚀刻液；(3)蚀刻：采用蚀刻液对步骤(1)所得到潜径迹铜箔进行蚀刻，在蚀刻过程中，随着铜的溶解补加氨水和氯化铵；蚀刻后得到核孔铜箔，蚀刻后的铜箔厚度减薄；(4)将蚀刻后的核孔铜箔在纯水中清洗，烘干，然后打卷，即得成品。本发明的重离子核孔铜箔的制作方法制作的重离子核孔铜箔具有孔密度大、孔分布均匀、孔径大小可控的优点，在锂电池生产、定量分析、高分子聚合物分离中有广泛的用途。

技术领域

本发明涉及一种铜箔的制作方法，具体是一种重离子核孔铜箔的制作方法。

背景技术

核孔膜又名核径迹蚀刻膜，是国外70年代发展起来的一种新型微孔滤膜。该膜是一种精密过滤和筛分粒子的理想滤膜，微孔结构为圆柱状孔道且孔径大小均匀，属筛分过滤机理，能多次重复使用，承压能力强，耐高温消毒，化学及生物稳定性好，被认为是目前最好的精密过滤材料，在国外目前已广泛应用于电子，食品，化学，制药等工业和生物，医学，环境，分析检测等领域，具有广阔的应用前景。

目前国内主要用反应堆生产的核孔膜，但其弊病在于孔径难以控制均匀，远远不能达到精密过滤的要求。而通过重离子加速器研制、生产的核微孔滤膜是一种新型的过滤膜。其核微孔滤膜的滤孔呈几何形状且规则，孔径均匀(基本为圆柱形的直通孔)过滤时大于孔径的微粒被截留在滤膜表面。滤膜本身是电介质薄膜，不存在滤膜本身对滤液的污染，故此为精密过滤和筛分粒子的理想工具。本发明提供一种重离子核孔铜箔的制作方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种重离子核孔铜箔的制作方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种重离子核孔铜箔的制作方法，包括以下步骤：

(1)辐照：将厚度≤60mm的铜箔用重离子加速器辐照，形成潜径迹，得到潜径迹铜箔；

(2)制备蚀刻液：在氯化铜溶液中加入氨水，发生络合反应，反应方程式如下：

CuCl₂+4NH₃→Cu(NH₃)₄Cl₂

(3)蚀刻：采用蚀刻液对步骤(1)所得到潜径迹铜箔进行蚀刻，在蚀刻过程中，铜箔表面以及潜径迹的铜被[Cu(NH₃)₄]²⁺络离子氧化，其蚀刻反应方程式如下：

Cu(NH₃)₄Cl₂+Cu→2Cu(NH₃)₂Cl

在蚀刻过程中，随着铜的溶解补加氨水和氯化铵，上述蚀刻反应生成的[Cu(NH₃)₂]⁺被空气中的O₂氧化，生成具有蚀刻能力的[Cu(NH₃)₄]²⁺络离子，其反应方程式如下：

2Cu(NH₃)₂Cl+2NH₄Cl+2NH₃+1/2O₂→2Cu(NH₃)₄Cl₂+2H₂O

蚀刻后得到核孔铜箔，蚀刻后的铜箔厚度减薄；

(4)将蚀刻后的核孔铜箔在纯水中采用超声波清洗，在80-95℃下烘干，然后打卷，即得成品。