[发明专利]PVD辉光氧化装饰性镀膜方法

权利要求书

1.一种PVD辉光氧化装饰性镀膜方法，其特征在于，包括：

步骤一、提供目标色的a*值区间和b*值区间；

步骤二、采用PVD法在待加工表面上沉积形成一层具有一定颜色的基色膜层，并且使所述基色膜层的颜色的a*值至少达到目标色的a*值区间的下限值的20％，且所述基色膜层的颜色的a*值不超过目标色的a*值区间的上限值的50％，使所述基色膜层的颜色的b*值至少达到目标色的b*值区间的下限值的60％，且所述基色膜层的颜色的b*值不超过目标色的b*值区间的上限值的80％；所述PVD法为多弧离子镀法；

步骤三、采用辉光氧化法在所述基色膜层之上进行氧化反应，控制辉光放电过程以及所述氧化反应的进行，以使形成的氧化膜层的颜色的a*值落入所述目标色的a*值区间，使形成的氧化膜层的颜色的b*值落入至所述目标色的b*值区间。

2.如权利要求1所述的PVD辉光氧化装饰性镀膜方法，其特征在于，所述步骤一中，所述目标色的a*值大于0，b*值大于0。

3.如权利要求2所述的PVD辉光氧化装饰性镀膜方法，其特征在于，所述待加工表面为金属表面。

4.如权利要求1所述的PVD辉光氧化装饰性镀膜方法，其特征在于，所述步骤三中，控制辉光放电过程以及所述氧化反应的进行，其具有过程为：控制参与辉光放电过程的氧气量，控制真空度为1.0×10⁰～2.0×10⁰Pa，偏压为500V～600V，控制辉光时间。

5.如权利要求1所述的PVD辉光氧化装饰性镀膜方法，其特征在于，所述步骤一中，采用分光测色仪将目标色量化。