[发明专利]PVD辉光氧化装饰性镀膜方法

说明书

本发明公开了一种PVD辉光氧化装饰性镀膜方法，包括：提供目标色的a*值区间和b*值区间；采用PVD法在待加工表面上沉积形成一层具有一定颜色的基色膜层，使其颜色的a*值至少达到目标色的a*值区间的下限值的10％，a*值不超过目标色的a*值区间的上限值的90％，使b*值至少达到目标色的b*值区间的下限值的10％，b*值不超过目标色的b*值区间的上限值的90％；采用辉光氧化法在基色膜层之上进行氧化反应，控制辉光放电过程以及氧化反应的进行，以使形成的氧化膜层的颜色的a*值落入目标色的a*值区间，使形成的氧化膜层的颜色的b*值落入至目标色的b*值区间。本发明产品膜层颜色均匀，工艺简单。

技术领域

本发明涉及镀膜方法，尤其涉及一种PVD辉光氧化装饰性镀膜方法。

背景技术

PVD(Physical Vapor Deposition物理气相沉积)装饰镀颜色复杂多样，对于采用多弧离子镀PVD设备生产的某些颜色(如金黄色、玫瑰色、咖啡色等)，需要加入N₂与C₂H₂或CH₄、O₂参加沉积反应，其成色工艺不稳定，存在产品阴阳色大，同炉产品间颜色差异大，良品率极低等问题，因此经常需多次返工处理，造成生产效率低下，设备生产负荷增加，动力能源消耗增加，生产成本上升，生产期加长，难以快速满足客户订单需求。

发明内容

针对上述技术问题，本发明设计开发了一种成色稳定，颜色均匀，成品率高，工艺简单的PVD辉光氧化装饰性镀膜方法。

本发明提供的技术方案为：

一种PVD辉光氧化装饰性镀膜方法，包括：

步骤一、提供目标色的a*值区间和b*值区间；

步骤二、采用PVD法在待加工表面上沉积形成一层具有一定颜色的基色膜层，并且使所述基色膜层的颜色的a*值至少达到目标色的a*值区间的下限值的10％，且所述基色膜层的颜色的a*值不超过目标色的a*值区间的上限值的90％，使所述基色膜层的颜色的b*值至少达到目标色的b*值区间的下限值的10％，且所述基色膜层的颜色的b*值不超过目标色的b*值区间的上限值的90％；

步骤三、采用辉光氧化法在所述基色膜层之上进行氧化反应，控制辉光放电过程以及所述氧化反应的进行，以使形成的氧化膜层的颜色的a*值落入所述目标色的a*值区间，使形成的氧化膜层的颜色的b*值落入至所述目标色的b*值区间。

优选的是，所述的PVD辉光氧化装饰性镀膜方法中，所述步骤一中，所述目标色的a*值大于0，b*值大于0。

优选的是，所述的PVD辉光氧化装饰性镀膜方法中，所述待加工表面为金属表面。

优选的是，所述的PVD辉光氧化装饰性镀膜方法中，所述步骤二中，采用PVD法在待加工表面上沉积形成一层具有一定颜色的基色膜层，并且使所述基色膜层的颜色的a*值至少达到目标色的a*值区间的下限值的20％，且所述基色膜层的颜色的a*值不超过目标色的a*值区间的上限值的50％，使所述基色膜层的颜色的b*值至少达到目标色的b*值区间的下限值的60％，且所述基色膜层的颜色的b*值不超过目标色的b*值区间的上限值的80％。

优选的是，所述的PVD辉光氧化装饰性镀膜方法中，所述步骤三中，控制辉光放电过程以及所述氧化反应的进行，其具有过程为：控制参与辉光放电过程的氧气量，控制真空度为1.0×100～2.0×100Pa，偏压为500V～600V，控制辉光时间。

优选的是，所述的PVD辉光氧化装饰性镀膜方法中，所述步骤一中，采用分光测色仪将目标色量化。