[发明专利]一种配向膜涂布方法以及配向膜制备装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示设备制造技术领域，特别涉及一种配向膜涂布方法以及配向膜制备装置。

背景技术

传统配向膜工艺是利用不同尺寸的转印板挂在印刷辊轮上，通过对位技术，将转印板上的图案转印到基板上，之后进行摩擦配向。

但是，目前该技术有以下问题：1.受制于转印板精度和对位精度的限制，涂布精度比较低，只有800±500um。2.由于不同尺寸转印板不同，因为每次更换尺寸需要更换转印板，操作复杂。3.由于非显示区域和显示区域配向膜涂布不同，具有段差，在摩擦配向时会造成布毛损伤，会造成摩擦不均匀。

发明内容

本发明提供了一种配向膜涂布方法以及配向膜制备装置，上述配向膜涂布方法采用对衬底基板进行全涂布的方式，利于提高配向膜的精确度，减缓摩擦布毛的磨损。

为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：

一种配向膜涂布方法，所述方法包括：

在衬底基板一侧整版涂布配向膜溶液并形成整层膜层；

对所述整层膜层进行摩擦配向；

采用构图工艺对进行摩擦配向之后的所述整层膜层进行构图，形成配向膜图案。

上述配向膜涂布方法中，先对整版涂布配向膜溶液的衬底基板上的整层膜层进行摩擦配向，之后构图形成配向膜图案，该方法使得配向膜图案的形成位置精度高，边缘控制优良，使得通过该方法制成的配向膜可以凭借高精度的特性应用于超窄边框设计。而且，由于摩擦配向过程中没有段差，有效的避免了摩擦布毛的损伤，可延长摩擦布毛的使用寿命。

此外，上述配向膜涂布方式采用对衬底基板整版涂布的方式，在生产多种型号的显示面板时，可以不更换转印板，多种型号都可以使用同一种转印板，有效地增强生产的连续性，可提高生产效率。

因此，上述配向膜涂布方法采用对衬底基板进行全涂布的方式，利于提高配向膜的精确度，减缓摩擦布毛的磨损。

进一步地，所述构图工艺包括：

采用激光刻蚀方法进行刻蚀；或者，

采用等离子刻蚀方法进行刻蚀；或者，

采用先激光刻蚀后等离子刻蚀的方法进行刻蚀。

进一步地，采用激光刻蚀方法进行刻蚀时，采用激光刻蚀装置对所述整层膜层进行刻蚀，形成配向膜图案。

进一步地，采用等离子刻蚀方法进行刻蚀时，采用等离子刻蚀装置对所述整层膜层进行刻蚀，形成配向膜图案。

进一步地，采用先激光刻蚀后等离子刻蚀的方法进行刻蚀时，先采用激光刻蚀装置对所述整层膜层进行软化，再采用等离子刻蚀装置对软化后的所述整层膜层进行轰击，形成配向膜图案。

本发明还提供了一种配向膜制备装置，用于如以上任一项技术方案中所述的配向膜涂布方法，包括涂布装置、配向装置和构图装置，

所述涂布装置用于在衬底基板一侧整版涂布配向膜溶液并形成整层膜层；

所述配向装置用于对所述整层膜层进行摩擦配向；

所述构图装置用于采用构图工艺对进行摩擦配向之后的所述整层膜层进行构图，形成配向膜图案。

进一步地，所述构图装置为激光刻蚀装置，所述激光刻蚀装置包括激光束发射单元、平面准直镜、平面反射镜和平面聚焦镜：

所述激光束发射单元位于所述平面准直镜的焦点；所述平面准直镜位于所述激光束发射单元与所述平面反射镜之间，且所述平面准直镜的光轴与所述平面反射镜的镜面呈45°夹角，所述平面准直镜的光轴与所述平面聚焦镜的光轴垂直；所述平面聚焦镜的光轴与所述平面折反镜的镜面呈45°夹角。

进一步地，所述构图装置为等离子刻蚀装置，所述等离子刻蚀装置具有等离子发生腔，所述等离子发生腔通过管路连接有氧气源和氩气源；

所述等离子发生腔内安装有两个电极，两个所述电极分别与高频电源连接,以便充入所述等离子发生腔内的氩气和氧气经两个所述电极产生的快速变化的电场形成高速等离子流体；

所述等离子发生腔的端部安装有用于喷出所述等离子流体的喷嘴。

进一步地，所述构图装置还包括用于承载衬底基板的载物台。

进一步地，所述载物台为固定平台；或者，

所述载物台为移动平台。

附图说明

图1a-图1d为本发明实施例提供的配向膜涂布方法的流程示意图；

图2为本发明实施例提供的构图工艺选取方法一时使用的装置结构示意图；

图3为本发明实施例提供的构图工艺选取方法三时使用的装置结构示意图。