[发明专利]一种低钯化学镀铜活化剂及制备方法有效
| 申请号： | 201710642278.2 | 申请日： | 2017-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN107460456B | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | 王亚君;刘江波;章晓冬;童茂军 | 申请（专利权）人： | 苏州天承化工有限公司 |
| 主分类号： | C23C18/38 | 分类号： | C23C18/38;C23C18/18 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 215124 江苏省苏州市吴中*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学镀铜 活化剂 低钯 活化 制备 表面活性剂 电路板通孔 反应加速剂 活化液 硫酸钯 浓度计 稳定剂 钯金属 镀覆 孔壁 盲孔 配比 吸附 配合 | ||
1.一种低钯化学镀铜活化剂，其特征在于，按质量浓度计，所述低钯化学镀铜活化剂包含以下物质：
所述稳定剂选自乙二酸和/或苹果酸。
2.根据权利要求1所述的低钯化学镀铜活化剂，其特征在于，所述反应加速剂选自2-氨基氮杂苯、3-吡啶甲醇、2-(4-甲基苯基)吡啶、2,6-二氨基吡啶中的一种或至少两种的混合物。
3.根据权利要求1或2所述的低钯化学镀铜活化剂，其特征在于，所述反应加速剂的质量浓度为0.01～0.015g/L。
4.根据权利要求1所述的低钯化学镀铜活化剂，其特征在于，所述表面活性剂为非离子型全氟表面活性剂。
5.根据权利要求4所述的低钯化学镀铜活化剂，其特征在于，所述非离子型全氟表面活性剂为杜邦公司生产的Zonyl FSJ。
6.根据权利要求1所述的低钯化学镀铜活化剂，其特征在于，所述表面活性剂的质量浓度为0.003～0.006g/L。
7.根据权利要求1所述的低钯化学镀铜活化剂，其特征在于，所述稳定剂的质量浓度为0.01-0.03g/L。
8.根据权利要求1所述的低钯化学镀铜活化剂，其特征在于，所述低钯化学镀铜活化剂按质量浓度计，包含以下物质：
其中，所述反应加速剂选自2-氨基氮杂苯、3-吡啶甲醇、2-(4-甲基苯基)吡啶、2,6-二氨基吡啶中的一种或至少两种的混合物；
所述稳定剂选自乙二酸和/或苹果酸。
9.一种如权利要求1-8之一所述的低钯化学镀铜活化剂的制备方法，其特征在于，所述制备方法为，按质量浓度计，将0.01～0.03g/L的硫酸钯、0.005～0.02g/L的反应加速剂、0.001～0.01g/L的表面活性剂、0.001～0.05g/L的稳定剂、余量的去离子水混合均匀，得到所述低钯化学镀铜活化剂。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
