[发明专利]彩膜基板的制备方法及喷墨打印装置在审
| 申请号： | 201710645586.0 | 申请日： | 2017-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN107390419A | 公开（公告）日： | 2017-11-24 |
| 发明（设计）人： | 谷晓飞;付开鹏;华明;石海军;王亮;毕建强 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;B41M5/00;B41J2/01;B41J3/407 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司11262 | 代理人： | 张京波,曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 制备 方法 喷墨 打印 装置 | ||
1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括：
将掩膜版对位设置在基底上，所述掩膜版设置有镂空区域，所述镂空区域与所述基底上设置黑矩阵的位置相对应；
向所述掩膜版的镂空区域喷涂黑矩阵光阻材料，在所述基底上形成黑矩阵；
对所述黑矩阵进行固化处理。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，还包括：在所述黑矩阵之间形成彩色光阻。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述对所述黑矩阵进行固化处理，包括：采用红外式加热设备或电阻式加热设备加热所述黑矩阵，所述黑矩阵固化后移除掩膜版。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，加热温度为115℃至125℃。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述黑矩阵光阻材料包括碳黑。
6.一种喷墨打印装置，其特征在于，包括：
基台，用于承载对位设置好掩膜版的基底；
第一喷头，设置在所述基台的上方，用于向所述掩膜版的镂空区域喷涂黑矩阵光阻材料，在所述基底上形成黑矩阵。
7.根据权利要求6所述的喷墨打印装置，其特征在于，所述喷墨打印装置还包括加热设备，所述加热设备设置在基台上或基台周围，用于对所述黑矩阵进行固化。
8.根据权利要求7所述的喷墨打印装置，其特征在于，所述加热设备的加热温度为115℃至125℃。
9.根据权利要求6至8任一所述的喷墨打印装置，其特征在于，所述第一喷头包括：
第一储存体，用于储存黑矩阵光阻材料；
第一分流体，通过管路与所述第一储存体连接，用于从所述第一储存体获取黑矩阵光阻材料；
多个第一喷嘴，设置在所述第一分流体上，用于将所述第一分流体中的黑矩阵光阻材料喷涂到所述掩膜版的镂空区域。
10.根据权利要求6至8任一所述的喷墨打印装置，其特征在于，还包括第二喷头，所述第二喷头设置在所述基台的上方，用于在所述黑矩阵之间喷涂彩色光阻材料，在所述基底上形成彩色光阻。
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