[发明专利]一种金属光栅的制作方法、金属光栅及显示装置

权利要求书

1.一种金属光栅的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上依次形成金属层、减反层和深紫外光刻胶层；

采用光刻工艺对所述深紫外光刻胶层进行刻蚀，形成光栅掩膜图案；

以所述光栅掩膜图案作为遮挡，采用干刻工艺对所述减反层进行刻蚀，形成与所述光栅掩膜图案相同的刻蚀模板图案；

剥离具有所述光栅掩膜图案的深紫外光刻胶层；

以所述刻蚀模板图案作为遮挡，采用干刻工艺对所述金属层进行刻蚀，形成金属光栅；

采用等离子体处理工艺，在去除具有所述刻蚀模板图案的减反层的同时，在所述金属光栅的表面形成保护膜；

在形成所述减反层之后，且形成所述深紫外光刻胶层之前，还包括：在所述减反层上形成硬膜板层；

在以所述光栅掩膜图案作为遮挡，采用干刻工艺对所述减反层进行刻蚀的同时，还包括：采用干刻工艺对所述硬膜板层进行刻蚀；

在形成金属光栅之后，且采用等离子体处理工艺之前，还包括：去除具有所述刻蚀模板图案的硬膜板层。

2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述金属层上依次形成减反层和深紫外光刻胶层，具体包括：

形成的所述深紫外光刻胶层和所述减反层之间的刻蚀选择比不小于预设阈值。

3.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述金属层上依次形成减反层和深紫外光刻胶层，具体包括：

形成的所述深紫外光刻胶层和所述减反层之间的刻蚀选择比不小于所述深紫外光刻胶层和硬膜板层之间的刻蚀选择比。

4.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述金属层上形成所述减反层，具体包括：

在所述金属层上依次形成多层折射率不同的减反层。

5.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述在所述金属层上依次形成多层折射率不同的减反层，具体包括：

在所述金属层上依次形成奇数层的折射率高于相邻的偶数层的折射率的多层减反层。

6.如权利要求1-5任一项所述的制作方法，其特征在于，所述采用等离子体处理工艺，在去除具有所述刻蚀模板图案的减反层的同时，在所述金属光栅的表面形成保护膜，具体包括：

采用等离子体处理工艺，通入过量时间的氧气，在去除具有所述刻蚀模板图案的减反层的同时，在所述金属光栅的表面进行氧化处理形成保护膜。