[发明专利]一种发酵培养基用大豆全粉的生产方法及熟化装置在审

专利信息
申请号: 201710654428.1 申请日: 2017-08-03
公开(公告)号: CN107345206A 公开(公告)日: 2017-11-14
发明(设计)人: 岳新军 申请(专利权)人: 河南天未生物辅料有限公司
主分类号: C12N1/00 分类号: C12N1/00
代理公司: 焦作市科彤知识产权代理事务所(普通合伙)41133 代理人: 何贯通
地址: 454000 河南*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 发酵 培养基 大豆 生产 方法 熟化 装置
【说明书】:

发明涉及发酵培养基用大豆全粉加工领域,具体地说,涉及以大豆为原料,进行精细深加工,生产适合微生物生长和代谢的培养基组分。

背景技术

我国抗生素类药品年生产总量约为5万吨,这些抗生素原料药的生产都采用工业发酵生产,所需氮源培养基总需求量大于10万吨。我国三大发酵制品的产量约100万吨,酶制剂如淀粉酶、蛋白酶、纤维素酶、糖化酶等,氨基酸如赖氨酸、L-丙氨酸、谷氨酸和天门冬氨酸 等的发酵生产均需大量的培养基。生物农药如井冈霉素、苏云金杆菌、阿维菌素等产品年产量数十万吨,所需培养基的量也很大。目前国内工业发酵所需氮源培养基总量在50万吨以上。我国工业发酵的培养基主要有玉米浆、黄豆(饼)粉、花生(饼)粉、棉籽(饼)粉、 蚕蛹粉、酵母粉、鱼粉等。这些有机氮源一般都是农副产品的有效成分被提取后的废弃物,生产工艺简单、落后,生产过程的控制粗放而简单,产品的质量稳定性极差。其中豆饼做为发酵工艺中一种不可或缺的原料,做为氮源使用。他的来源只有是压榨油厂的下脚料,油厂以收获油的品质为主,并不以下脚料豆饼为主,这样,造成发酵企业在豆饼作为氮源使用过程中质量品质的不确定性。

发明内容

本发明的目的是为了解决传统的大豆饼作为发酵培养基重要组分使用时,来源单一、质量不稳定的问题,本发明采用大豆为原料,经过下游企业技术论证,以及试验应用,提出一种工序简单、操作容易、产品质量稳定、营养成分丰富的发酵用大豆全粉的切实可行的生产方法。

本发明的技术方案是:一种发酵培养基用大豆全粉的生产方法,包括以下步骤:(1)粗粉碎:将大豆在磨粉机内粗粉碎;(2)熟化:将在磨粉机内粗粉碎过的大豆粗粉输送至熟化装置中加热熟化;(3)冷却:将制得的熟化大豆粗粉输送至冷却机冷却至环境温度;(4)细粉碎:将大豆粗粉在磨粉机内细粉碎;(5)进行封口包装,得到大豆全粉成品。

优选的是:大豆在经过所述的步骤2)粗粉后粉碎细度为20-40目。优选的是:大豆粗粉在经过所述的步骤6)细粉后粉碎细度为60-80目。

一种发酵用培养基,原料中包括本发明所述的大豆全粉。用本发明方法制得的大豆全粉替代传统压榨法产生的大豆饼,作为发酵用培养基的重要组分,开创了行业先河,增加了原料来源,大豆全粉中营养成分丰富,因此发酵效果更加优异。

本发明还提供一种上述发酵培养基用大豆全粉的生产方法中所使用的熟化装置,所述熟化装置为炒锅,所述炒锅为5层;5层炒锅从上到下首尾依次衔接相通;每层温度为:炒锅最上面第一层温度控制为40-70℃,炒锅第二层温度控制为70-100℃,炒锅第三层温度控制为100-150℃,炒锅第四层温度控制为150-180℃,炒锅第五层温度控制为180-200℃。

优选的,炒锅每层温度为:炒锅最上面第一层温度控制为70℃,炒锅第二层温度控制为100℃,炒锅第三层温度控制为150℃,炒锅第四层温度控制为180℃,炒锅第五层温度控制为200℃。

本发明的有益效果是:本发明具有工序简单、操作容易、产品质量稳定、节省人力成本、生产效率高、产品质量有保证;同时采用大豆为原料,替代了大豆饼,开辟了一个发酵工艺中获得大豆氮源新的加工领域,扩大了有机氮源粉的来源,改变了原料来源的局限性,减少产品加工的二次污染,全程无废料产生,绿色环保。熟化装置对大豆粗粉进行多梯度温度逐步熟化,可以有效的熟化大豆粗粉,使最终产物大豆全粉易发酵,易吸收。

附图说明

附图1为本发明具体实施流程图;

附图2本发明中熟化装置结构示意图。

附图标记为:

支架1、下料斗2、搅拌叶片3、炒锅本体4、搅拌轴5、进料斗6、温度传感器7、电加热线圈8。

具体实施方式

以下结合附图,对本发明做进一步的描述。

实施例1

如图1所示,一种发酵培养基用大豆全粉的生产方法,包括以下步骤:(1)粗粉碎:将大豆输送到在磨粉机内粗粉碎至20目;(2)熟化:将在磨粉机内粗粉碎过的大豆粗粉输送熟化装置锅中,加热熟化;(3)冷却:将制得的熟化大豆粗粉输送至冷却机冷却至环境温度;(4)细粉碎:将大豆粗粉在磨粉机内细粉碎至80目;7)进行封口包装,得到大豆全粉成品。

步骤2)所述的熟化装置采用炒锅,所述炒锅为5层;5层炒锅从上到下首尾依次衔接相通,炒锅最上面第一层温度控制为70℃,炒锅第二层温度控制为100℃,炒锅第三层温度控制为150℃,炒锅第四层温度控制为180℃,炒锅第五层温度控制为200℃。

实施例2

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