[发明专利]一种实现自身静电放电保护的高压器件有效

专利信息
申请号: 201710656774.3 申请日: 2017-08-03
公开(公告)号: CN109390330B 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 汪广羊 申请(专利权)人: 无锡华润上华科技有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京市磐华律师事务所 11336 代理人: 汪洋;高伟
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 实现 自身 静电 放电 保护 高压 器件
【权利要求书】:

1.一种实现自身静电放电保护的高压器件,其特征在于,包括:

半导体衬底;

形成于所述半导体衬底中的第一N-阱、P-阱和第二N-阱,其中所述第一N-阱和所述第二N-阱深度相同,所述P-阱的深度小于所述第一N-阱的深度,且所述第一N-阱和所述第二N-阱之间存在间距;

形成于所述第一N-阱中的第一N+离子注入区和第一隔离区;

形成于所述P-阱中的第二N+离子注入区和紧贴所述第二N+离子注入区的P+离子注入区;

形成于所述第二N-阱中的第三N+离子注入区;

形成于所述半导体衬底中的第二隔离区,所述第二隔离区覆盖部分所述第二N-阱和部分所述P-阱,其中,所述第二N+离子注入区、所述P+离子注入区和所述第三N+离子注入区构成NPN型BJT,通过所述BJT实现所述静电放电保护,且通过调整所述第一N-阱和所述第二N-阱之间的间距的大小来实现不同电压的静电放电保护。

2.根据权利要求1所述的高压器件,其特征在于,所述第二N+离子注入区作为所述BJT的集电极,所述P+离子注入区作为所述BJT的基极,所述第三N+离子注入区作为所述BJT的发射极。

3.根据权利要求1所述的高压器件,其特征在于,所述第一N-阱和所述第二N-阱同时形成。

4.根据权利要求1所述的高压器件,其特征在于,调整所述间距的大小时保证所述P-阱的下方形成有部分所述第二N-阱。

5.根据权利要求1所述的高压器件,其特征在于,所述第一N+离子注入区作为所述高压器件的漏极,所述第二N+离子注入区作为所述高压器件的源极。

6.根据权利要求1所述的高压器件,其特征在于,静电放电引发的电流从所述第一N+离子注入区经由所述第一N-阱和所述第二N-阱流向所述第三N+离子注入区。

7.根据权利要求6所述的高压器件,其特征在于,通过调整所述第一N-阱和所述第二N-阱之间的间距的大小先触发所述BJT,完成对所述高压器件的静电放电保护。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的高压器件,其特征在于,还包括形成在所述半导体衬底上的栅极,所述栅极覆盖部分所述P-阱、部分所述第一N-阱和部分所述第一隔离区。

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