[发明专利]一种光学临近修正工艺的预处理方法

权利要求书

1.一种光学临近修正工艺的预处理方法，适用于采用设计规则检查工具去除图形的图形边凸起，所述设计规则检查工具提供一网格及一坐标系，所述图形具有多个图形边，定义与所述图形边凸起邻接的一第一图形边和一第二图形边，所述图形边凸起位于所述多个图形边中的45°斜边上，所述图形边凸起将所述45°斜边分为所述第一图形边和所述第二图形边，其特征在于，所述第一图形边与所述图形边凸起在所述图形内侧成225°，所述第二图形边与所述图形边凸起在所述图形内侧成135°，所述图形边凸起具有凸起短边，所述凸起短边与所述坐标系的X轴或Y轴重合，或者所述凸起短边与所述坐标系的X轴或Y轴平行，每个所述图形边及所述图形边凸起分别位于所述网格上；所述方法包括：

步骤S1、将第一图形边朝图形外侧延伸一第一预设距离以得到一平行四边形的第一图形，第一图形具有一与图形边凸起重合的第一短边、与第一短边平行的第二短边、与第一图形边重合的第一长边及与第一长边平行的第二长边；

步骤S2、将第二图形边朝图形外侧延伸一第二预设距离以得到一预处理覆盖图形，将预处理覆盖图形沿与第二图形边平行的方向延伸一第三预设距离以得到一覆盖部分第一图形的覆盖图形；

步骤S3、对第一图形和覆盖图形进行逻辑“非”处理以得到第二图形；

步骤S4、对图形和第二图形进行逻辑“或”处理以得到具有一倒角缺口的第一目标图形；

步骤S5、对倒角缺口进行三角填充以得到第二目标图形。

2.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述图形边凸起的长度小于5nm。

3.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述网格为具有所述设计规则检查工具预设的最小精度的网格。

4.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述第一预设距离为5mm。

5.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述第二预设距离为5mm。

6.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述步骤S3中，进行所述逻辑“非”处理后去除所述覆盖图形和部分所述第一图形得到所述第二图形，所述第二图形具有与所述第一短边重合的第三短边、与所述第二短边重合且与所述第三短边平行的第四短边、所述第一长边及与所述第二图形边邻接且平行的第三长边。

7.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述步骤S4中，进行所述逻辑“或”处理后，将所述第二图形与所述第一目标图形合并后转换为所述第二目标图形。