[发明专利]一种耐磨保护膜和使用该膜保护的物品

权利要求书

1.一种保护膜，包括聚氨酯层，其中在1Hz频率的测试条件下，所述聚氨酯层的储能模量在25～2000MPa范围内，且所述聚氨酯层的厚度为12～55微米；以及根据GB/T1768标准，采用CS-17号砂轮以750g荷重以67r/min的转速在所述保护膜上旋转1000转进行耐磨性测试时，所述保护膜的磨损失重不大于100mg。

2.根据权利要求1所述的保护膜，其中在1Hz频率的测试条件下，所述聚氨酯层的储能模量在25～1000MPa范围内，且所述聚氨酯层的厚度为20～55微米。

3.根据权利要求1所述的保护膜，其中在1Hz频率的测试条件下，所述聚氨酯层的储能模量在1000～2000MPa范围内，且所述聚氨酯层的厚度为25～45微米。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的保护膜，其中根据GB/T1768标准，采用CS-17号砂轮以750g荷重以67r/min的转速在所述保护膜上旋转1000转进行耐磨性测试时，所述保护膜的磨损失重不大于75mg。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的保护膜，其中根据GB/T1768标准，采用CS-17号砂轮以750g荷重以67r/min的转速在所述保护膜上旋转1000转进行耐磨性测试时，所述保护膜的磨损失重不大于25mg。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的保护膜，其还包括与所述聚氨酯层层合的胶粘剂层。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的保护膜，其还包括聚合物基底层和任选的胶粘剂层，所述聚合物基底层包括第一表面和与所述第一表面相反的第二表面，所述聚氨酯层附着在所述聚合物基底层的第一表面上，所述任选的胶粘剂层附着在所述聚合物基底层的第二表面上。

8.根据权利要求7所述的保护膜，其中所述聚合物基底层包含或由以下材料中的一种或多种构成：聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸甲酯、聚醋酸乙烯酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚氨酯。

9.根据权利要求7所述的保护膜，其中所述聚合物基底层是聚氯乙烯层。

10.根据权利要求7所述的保护膜，其中所述聚合物基底层的厚度为25～100微米。

11.根据权利要求1-3中任一项所述的保护膜，其中所述聚氨酯层是双组份聚氨酯层，包含选自聚酯基聚氨酯、聚碳酸酯基聚氨酯、聚醚基聚氨酯中的一种或多种。

12.根据权利要求1-3中任一项所述的保护膜，其中所述聚氨酯层是脂肪族多元醇和脂肪族多异氰酸酯的反应产物。

13.根据权利要求1-3中任一项所述的保护膜，其中所述聚氨酯层通过溶液涂布的方式形成。

14.一种物品，包括具有表面的基材和根据权利要求1-13中任一项所述的保护膜，所述保护膜贴覆于所述基材的表面上。

15.根据权利要求14所述的物品，其中所述基材是选自金属、塑料、玻璃、陶瓷中的一种或多种。

16.根据权利要求14或15的物品，其中所述基材具有涂漆表面，并且所述保护膜贴覆于所述基材的涂漆表面上。