[发明专利]镀敷基材的修复剂、镀敷基材的修复方法及镀敷基材

权利要求书

1.一种修复剂，其用于修复镀敷基材，所述镀敷基材在金属基材表面具有镀层，所述镀层中含有金属,该金属的离子化倾向高于构成该金属基材的金属，其中，

所述镀敷基材具有到达所述金属基材处的缺陷，

所述修复剂含有磷酸化合物和膦酸化合物，由所述离子化倾向高的金属、所述磷酸化合物和所述膦酸化合物在露出于所述镀敷基材的所述缺陷处的所述金属基材表面形成保护薄膜。

2.根据权利要求1所述的修复剂，其中，

所述修复剂中还含有：含有所述离子化倾向高的金属的化合物。

3.根据权利要求2所述的修复剂，其中，

含有所述离子化倾向高的金属的化合物的该离子化倾向高的金属也有助于所述保护薄膜的形成。

4.根据权利要求2所述的修复剂，其中，

相对于所述磷酸化合物和所述膦酸化合物的总量100重量份，含有所述离子化倾向高的金属的化合物的含量为10～400重量份。

5.根据权利要求1所述的修复剂，其中，

所述磷酸化合物为无机磷酸化合物。

6.根据权利要求5所述的修复剂，其中，

所述无机磷酸化合物是从由磷酸H₃PO₄和磷酸盐组成的组中选出的一种以上化合物。

7.根据权利要求6所述的修复剂，其中，

所述磷酸盐是第一磷酸根离子H₂PO₄^-、第二磷酸根离子HPO₄^2-或第三磷酸根离子PO₄^3-与阳离子形成的盐，

所述阳离子是从一价金属离子、二价金属离子、三价金属离子和铵离子组成的组中选出的一种以上离子。

8.根据权利要求1所述的修复剂，其中，

所述膦酸化合物是有机膦酸化合物。

9.根据权利要求8所述的修复剂，其中，

所述有机膦酸化合物是从由含氮膦酸化合物和含氮膦酸盐组成的组中选出的一种以上化合物。

10.根据权利要求9所述的修复剂，其中，

所述含氮膦酸化合物是含膦酰基的胺。

11.根据权利要求1所述的修复剂，其中，

所述离子化倾向高的金属是从锌、铝和镁组成的组中选出的一种以上金属。

12.根据权利要求1所述的修复剂，其中，

所述镀层为锌镀层。

13.一种用所述权利要求1所述的修复剂来修复所述镀敷基材的修复方法。

14.根据权利要求13所述的修复方法，其中，

所述修复剂预先包含于所述镀层中，

当所述镀敷基材上形成到达所述金属基材处的缺陷后，所述镀层中含有的所述离子化倾向高的金属、所述磷酸化合物和所述膦酸化合物向露出于所述镀敷基材的所述缺陷处的所述金属基材表面渗出而形成保护薄膜。

15.根据权利要求13所述的修复方法，其中，

当所述镀敷基材上形成到达所述金属基材处的缺陷后，让所述修复剂的水溶液与该缺陷接触，且所述镀层中含有的所述离子化倾向高的金属向露出于所述镀敷基材的所述缺陷处的所述金属基材表面渗出，该离子化倾向高的金属、所述磷酸化合物和所述膦酸化合物在露出的所述金属基材表面形成保护薄膜。