[发明专利]线栅组件、起偏照明装置及光配向设备在审
申请号: | 201710681562.0 | 申请日: | 2017-08-10 |
公开(公告)号: | CN109387898A | 公开(公告)日: | 2019-02-26 |
发明(设计)人: | 朱树存;赵灿武 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/1337 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 线栅偏振元件 线栅 光配向设备 拼接缝隙 线状光源 照明装置 拼接处 基底 照度均匀性 非偏振光 排列方向 偏振元件 组件包括 消光比 偏振 拼接 入射 相抵 泄露 照射 | ||
本发明提供了一种线栅组件、起偏照明装置和光配向设备,所述线栅组件包括多个线栅偏振元件,每个所述线栅偏振元件包括基底和线栅;所述线栅位于所述基底的表面;多个所述线栅偏振元件沿着所述线状光源长度的方向以互补的形式并排拼接,由于线栅偏振元件边缘会存在微小的缺口或凹凸,将这些线栅偏振元件相抵排列会在拼接处形成空隙,本发明提供的相邻两个所述线栅偏振元件的线栅在拼接处具有重叠的部分,所述重叠的部分能够对所述线状光源入射进拼接缝隙的光进行偏振,能有效的防止照射在线栅偏振元件排列方向的非偏振光从拼接缝隙中泄露,获得更好的消光比和照度均匀性。
技术领域
本发明涉及半导体制造领域,尤其涉及一种线栅组件、起偏照明装置及光配向设备。
背景技术
光取向的技术是使用起偏照明装置向光配向膜照射特定波长的偏振光而进行取向,即将规定波长的偏振光照射在配向膜上,使得与偏振光的偏振轴方向一致或垂直的配向膜发生光致反应。
起偏照明装置一般包括照明组件和线栅组件组,由于配向膜需要的是波长在250nm~320nm的紫外线,线栅组件的线栅栅格间距优选为100nm,而目前半导体加工装置所能加工的基材直径为300mm。因此用于起偏照明装置的线栅组件的线栅只能采用多个线栅光源长度方向排列布置。
由于线栅组件是从玻璃基底上切割下来的,在边缘会存在微小的缺口或凹凸,只将这些偏振元件相抵排列会存在间隙,来自照明组件的直射光(无偏振光)从该间隙漏出,消光比会变差;而且切割时边缘的破损会引起栅格的缺损,在偏振元件的周边部分消光比也会变差。
发明内容
本发明的目的在于提供一种线栅组件、起偏照明装置及光配向设备,以解决现有技术中中线状光源发出的光通过线栅组件后消光比差,照度不均匀等问题。
为了达到上述目的,本发明提供了一种线栅组件,用于对来自线状光源的光进行偏振,其特征在于,所述线栅组件包括多个线栅偏振元件,每个所述线栅偏振元件包括基底和线栅;
所述线栅位于所述基底的表面;
多个所述线栅偏振元件沿着所述线状光源的长度方向以互补的形式并排拼接,并且拼接处形成有拼接缝隙;
相邻两个所述线栅偏振元件的线栅在拼接处具有重叠的部分,所述重叠的部分能够对所述线状光源入射进所述拼接缝隙的光进行偏振;
可选的,所述拼接缝隙的隙宽优选为2mm~5mm;
可选的,每个所述线栅偏振元件均为双面线栅元件,且双面的线栅的栅距均相同;
可选的,相邻两个所述线栅偏振元件之间以完全互补的形式进行拼接;
可选的,相邻两个所述线栅偏振元件中一个所述线栅偏振元件为凸形结构,则另一个所述线栅偏振元件为倒凸形结构;
可选的,所述凸形结构和倒凸形结构的台阶高度均为所述线栅偏振元件的厚度的一半;
可选的,所述凸形结构的台阶面宽度需大于:所述拼接缝隙的隙宽+所述基底的厚度+2*所述线栅偏振元件的加工误差和缺陷影响宽度;
可选的,所述线栅偏振元件包括第一线栅偏振元件和第二线栅偏振元件,多个所述第一线栅偏振元件沿着所述线状光源的长度方向并排拼接,相邻两个所述第一线栅偏振元件进行拼接的拼接面均呈台阶形状,所述第二线栅偏振元件嵌入在相邻两个所述第一线栅偏振元件的拼接面之间;
可选的,所述拼接面包括两级台阶,相邻两个所述第一线栅偏振元件的拼接面组合形成所述拼接缝隙及拼接缝隙下方的“凸”形空间,所述第二线栅偏振元件为凸形结构,所述凸形结构嵌入在所述“凸”形空间内;
可选的,所述第一线栅偏振元件和第二线栅偏振元件均为单面线栅元件;
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