[发明专利]一种喷涂式刻蚀槽在审
申请号: | 201710690141.4 | 申请日: | 2017-08-14 |
公开(公告)号: | CN107301969A | 公开(公告)日: | 2017-10-27 |
发明(设计)人: | 徐峰;陈刚;谭飞;徐光;葛新国 | 申请(专利权)人: | 通威太阳能(安徽)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;C30B33/10 |
代理公司: | 昆明合众智信知识产权事务所53113 | 代理人: | 张玺 |
地址: | 230088 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 喷涂 刻蚀 | ||
技术领域
本发明涉及硅片刻蚀技术领域,具体为一种喷涂式刻蚀槽。
背景技术
太阳能电池片的制造过程需要经过很多个步骤,其中对硅片的刻蚀工艺也是必不可少的一部分,硅片在刻蚀过程中,需要使用刻蚀液对硅片除了扩散面以外的所有面进行刻蚀。
现有技术中,常用的刻蚀槽均采用粘液滚轮,来对硅片进行刻蚀,通过粘液滚轮将刻蚀液粘在滚轮上,然后滚轮将刻蚀液传递到硅片上完成刻蚀,但是这种方式存在一个较为明显的缺陷:采用粘液滚轮的方式对硅片进行刻蚀时,使得硅片的侧壁无法很好的进行刻蚀,从而导致了硅片在刻蚀过程中,无法很好的将除了扩散面以外的其余面均刻蚀到,也就容易造成硅片刻蚀质量下降的情况。
发明内容
本发明的目的在于提供一种喷涂式刻蚀槽,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种喷涂式刻蚀槽,包括刻蚀槽、水泵以及喷嘴,所述刻蚀槽的内侧壁上对称设置有固定板,所述固定板中开设有滑槽,所述滑槽内活动设置有滑块,所述滑块中开设有安装槽,所述安装槽内侧壁上固定有定轴,所述定轴上活动连接有安装柱;
所述喷嘴固定于安装柱上,且喷嘴通过管道与水泵连通,所述刻蚀槽侧壁上固定有固定环,所述安装柱上固定有移动环,所述固定环与移动环通过连接线相连;
所述刻蚀槽安装有固定板的内侧壁上水平设置有滚轮。
优选的,每个所述喷嘴对应连接于一个水泵上。
优选的,所述水泵设置于支撑板上,所述支撑板固定于刻蚀槽外侧壁上。
优选的,所述滚轮上固定套设有限位轮。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
本发明的喷嘴通过水泵的作用,可以喷涂出刻蚀液对硅片的侧壁进行刻蚀,滑槽和滑块的作用,可以用来调节喷嘴的水平位置,以针对不同长度的硅片进行刻蚀;而且安装喷嘴的固定柱与定轴转动连接,可以通过调节连接线的长度,来调整喷嘴向下喷涂刻蚀液的角度,以针对不同厚度的硅片进行刻蚀,从而使得喷嘴可以很好的将刻蚀液喷涂到硅片的侧壁上,而且可以防止刻蚀液喷涂到扩散面上对硅片造成损坏。
本发明通过喷嘴和水泵的配合,可以很好的完成刻蚀液对硅片侧壁的喷涂,而且通过对喷嘴的水平位置以及喷液角度的调节,可以针对不同尺寸的硅片进行喷涂,非常方便,使得硅片在扩散面背面刻蚀的过程中,完成对硅片侧壁的刻蚀,在节约了大量时间的同时,还可以提高硅片刻蚀质量,十分有效。
附图说明
图1为本发明刻蚀槽的结构示意图;
图2为本发明的固定板结构示意图;
图3为本发明的滑块结构示意图;
图4为实施例中喷嘴对硅片的喷涂角度示意图。
图中:1刻蚀槽、2水泵、21支撑板、3固定板、4滑槽、5滑块、6安装槽、7定轴、8安装柱、9喷嘴、10固定环、11移动环、12连接线、13滚轮、14硅片、15限位轮。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-4,本发明提供一种技术方案:
一种喷涂式刻蚀槽,包括刻蚀槽1、水泵2以及喷嘴9,刻蚀槽1内装有刻蚀液,刻蚀槽1的内侧壁上对称设置有固定板3,固定板3作为安装基座,会接触到刻蚀液,所以需要在固定板3上设置有防酸液腐蚀层。
固定板3中开设有滑槽4,滑槽4内活动设置有滑块5,滑块5可以在滑槽4内自由移动,滑槽4的滑道对滑块5进行限位,可以防止滑块5从滑槽4内掉出,滑块5中开设有安装槽6,安装槽6内侧壁上固定有定轴7,定轴7的两端固定插接在安装槽6的侧壁上,定轴7本身不会转动,移动在定轴7上活动连接有安装柱8,安装柱8与定轴7之间采用铰接的方式,使得安装柱8可以绕着定轴7转动,实现对安装柱8的转动调节,通过滑块5的移动,从而带动定轴7进行移动,也就实现了安装柱8的左右移动,即带动喷嘴9左右移动。
喷嘴9固定于安装柱8上,喷嘴9安装在安装柱8远离定轴7的一端,如说明书附图4所示,喷嘴9安装后的喷液方向朝向硅片14,且喷嘴9通过管道与水泵2连通,使得水泵2向喷嘴9输送刻蚀液,且每个喷嘴9对应连接于一个水泵2上,水泵2从TANK槽内进行抽液,采用单一水泵2对应只对一个喷嘴9进行供液,使得喷嘴9之间相互不干扰。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造