[发明专利]一种电容层析成像的图像二值化方法和设备有效
申请号: | 201710693772.1 | 申请日: | 2017-08-14 |
公开(公告)号: | CN107424158B | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | 陈教选;李轶 | 申请(专利权)人: | 清华大学深圳研究生院 |
主分类号: | G06T7/11 | 分类号: | G06T7/11;G06T7/136;G01N27/22 |
代理公司: | 44223 深圳新创友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王震宇<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 518055 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电容 层析 成像 图像 二值化 方法 设备 | ||
1.一种电容层析成像的图像二值化方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、输入敏感场矩阵和电容值,建立ECT的线性化模型;
S2、利用全局或半全局的迭代算法获得介质分布的一个初值,以提供原始的图像数据;
S3、在ECT的线性化模型引入L2范数和L0范数,将求解介电常数分布g的问题转化为凸优化问题进行求解;
S4、输出介质分布的终值;
在步骤S1中,输入敏感场矩阵和电容值根据式(1)建立ECT的线性化模型:
λ=Sg (1)
式中:λ为m×1的归一化电容矢量,S为m×n的归一化敏感场矩阵,g为n×1的归一化介电常数矢量,m根据电容传感器的电极数目a确定,m=a*(a-1)/2,n为敏感场的网格划分数量;
步骤S3包括以下步骤:
S31、参数初始化;
S32、针对介电常数进行外插操作以及阈值操作;
步骤S31包括以下步骤:
在式(1)中分别引入L2范数和L0范数,则式(1)中求解介电常数分布g的问题转化为求解如下凸优化问题:
式中:r为非负的稀疏权重系数,||·||2表示L2范数,||·||0表示L0范数;
令g-1=g0=g初始,同时设置迭代当前值k和迭代的最大次数kmax;
步骤S32中,定义2个函数H(g)和G(g),
则关于H(g)的替代函数Rq(g,y)表示如下:
式中:y是引入的一个用来进行外插操作的变量,q是用来约束g和y之间的正则化变量,是一个非负数;
步骤S32包括以下步骤:
1)首先进行外插操作,w是外插系数,是一个非负数,第k次迭代过程中的介质常数gk的外插值由yk+1保存,即:
yk+1=gk+w(gk-gk-1)
分别将外插值yk+1和gk代入H(g)函数,当H(yk+1)>H(gk)时,令yk+1=gk;
2)接着,将得到的yk+1代入Rq(g,yk+1)中,求取此时令R函数值最小的g值,作为第k+1次介电常数的更新值gk+1,即:
将k值加1,如果k<kmax,返回到步骤1);否则跳出循环。
2.如权利要求1所述的电容层析成像的图像二值化方法,其特征在于,公式(5)由以下式子给出:
式中:υ(·)是一个阈值算子,a,b是阈值算子中的形参,[·]i表示一个向量的第i个分量,表示梯度算子。
3.一种电容层析成像设备,具有处理器和存储有计算机程序的计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机程序使所述处理器执行如权利要求1至2任一项所述方法的步骤。
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