[发明专利]具有光束形状修改的激光器有效

专利信息
申请号: 201710697144.0 申请日: 2013-05-07
公开(公告)号: CN107565374B 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 克里斯蒂安·斯塔加雷斯库;亚历克斯·A·贝法尔;诺曼·塞-强·广 申请(专利权)人: 镁可微波技术有限公司
主分类号: H01S5/022 分类号: H01S5/022;H01S5/10;H01S5/028
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 蔡胜有;董文国
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 光束 形状 修改 激光器
【说明书】:

本申请涉及具有光束形状修改的激光器。提供一种用于半导体激光器的光束控制结构,其允许光束形状修改,从而允许例如更高的耦合到光纤中。所述结构可以包含倾斜天井、阶梯、反射顶板和反射侧壁中的一个或多个。

本申请是申请日为2013年5月7日、申请号为201380024259.3、发明名称为“具有光束形状修改的激光器”的中国专利申请的分案申请。

相关申请案

本专利申请要求2012年5月8日提交的美国临时专利申请号61/644,270的优先权,所述申请以引用的方式整体并入本文。

技术领域

本公开一般涉及光子器件,更具体来说涉及改进的光子器件和其制造方法。

背景技术

通常通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)或分子束外延(MBE)在衬底上生长适当的层状半导体材料以形成具有平行于衬底表面的有源层的外延结构而在晶片上制造半导体激光器。然后利用多种半导体处理工具处理晶片以制造包括有源层并且包括附着到半导体材料的金属触点的激光器光腔。通常通过沿半导体材料的晶体结构解理半导体材料以限定激光器光腔的边缘或末端而在激光器腔的末端形成激光器腔面,使得当在触点上施加偏压时,所产生的流过有源层的电流使光子在垂直于电流的方向上从有源层的腔面边缘出射。由于解理半导体材料以形成激光器腔面,故腔面的位置和定向是有限的;此外,一旦晶片被解理,晶片通常就成为小块,以致不容易用常规的光刻技术来进一步处理激光器。

由使用解理腔面造成的上述和其他困难引致通过蚀刻形成半导体激光器的腔面的工艺的开发。在美国专利号4,851,368中描述的此工艺也允许激光器与其他光子器件单片集成在同一衬底上,所述专利的公开内容以引用的方式并入本文。这项工作被进一步扩展,并且基于蚀刻腔面的突脊激光器的工艺在1992年5月的IEEE量子电子学期刊(IEEEJournal of Quantum Electronics)的第28卷,第5号,1227-1231页中所公开。

使用半导体激光器的一个主要挑战是激光器的输出光束与光束定向或耦合到的介质之间的不匹配。例如,形成具有光斑大小转换器(SSC)的半导体激光器可以允许激光与光纤的更有效的耦合或扩大光学对准公差,然而,一般来说有随同形成SSC出现的某些缺点,例如,工艺的复杂性和激光器特性的降级。激光器特性的降级的实例为激光器阈值电流的增加。以下出版物讨论所使用的各种SSC方法:Itaya等人在IEEE量子电子学选题期刊(IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics)的第3卷,第3号,968-974页中的“Spot-Size Converter Integrated LaserDiodes(SS-LD’s)”;Moerman等人在IEEE量子电子学选题期刊的第3卷,第6号,1308-1320页中的“AReview on FabricationTechnologies forthe Monolithic Integration of Tapers with III–V SemiconductorDevices”;以及Yamazaki等人在IEEE量子电子学选题期刊的第3卷,第6号,1392-1398页中的“1.3-μm Spot-Size-Converter Integrated Laser DiodesFabricated by Narrow-Stripe Selective MOVPE”。

通过简单工艺形成的激光器结构允许光束修改而不显著影响激光器特性(例如,激光器阈值),这种结构是非常理想的,并且例如可以引致以低成本封装将激光束非常有效的耦合到光纤中。

发明内容

根据本公开,形成一种半导体激光器,其允许输出光束的修改。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于镁可微波技术有限公司,未经镁可微波技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710697144.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top