[发明专利]一种阵列基板及该阵列基板的制备方法在审

专利信息
申请号: 201710709567.X 申请日: 2017-08-17
公开(公告)号: CN107479280A 公开(公告)日: 2017-12-15
发明(设计)人: 赵阳;陈剑鸿 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/84
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 代理人: 钟子敏
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,包括:

衬底基板;

设置在衬底基板上的薄膜晶体管、与所述薄膜晶体管的源极电连接的数据线、与所述薄膜晶体管的漏极电连接的像素电极;

其中,所述数据线与所述像素电极分别设置在不同层中,所述数据线与所述像素电极所在层之间进一步设有导电透明层,所述数据线、所述导电透明层、所述像素电极层叠设置且相互之间绝缘。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,

所述数据线与所述像素电极在同一平面的垂直投影有重叠。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,

所述导电透明层上设有过孔,所述像素电极通过所述过孔与所述薄膜晶体管的漏极电连接。

4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,

所述阵列基板进一步还包括公共电极,所述导电透明层与所述公共电极电连接。

5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,

所述导电透明层与所述像素电极所在层之间还包括彩色光阻层以及覆盖所述光阻层的平坦保护层,

所述彩色光阻层位于所述导电透明层远离所述数据线的一侧,所述平坦保护层位于所述彩色光阻层远离所述导电透明层的一侧。

6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,

所述导电透明层的材料为铟锡氧化物。

7.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,

所述平坦保护层的材料为可溶性聚四氟乙烯。

8.一种阵列基板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:

提供一衬底基板;

在所述衬底基板上形成薄膜晶体管、与所述薄膜晶体管的源极电连接的数据线、导电透明层、与所述薄膜晶体管的漏极电连接的像素电极;

其中,所述数据线与所述像素电极分别设置在不同层中,所述导电透明层位于所述数据线与所述像素电极所在层之间,所述数据线、所述导电透明层、所述像素电极层叠设置且相互之间绝缘。

9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,在形成所述导电透明层之后,在形成所述像素电极之前还包括:

依次形成彩色光阻层以及覆盖所述彩色光阻层的平坦保护层,

其中,所述彩色光阻层位于所述导电透明层远离所述数据线的一侧,所述平坦保护层位于所述彩色光阻层远离所述导电透明层的一侧。

10.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,

所述导电透明层的材料为铟锡氧化物。

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