[发明专利]一种镜片多层高通光耐久镀膜工艺

说明书

本发明公开了一种镜片多层高通光耐久镀膜工艺，包括步骤：选取镜片，确定折射率和镀膜膜系结构为A+(B+C)^m+D+E；其中A层为SiO₂，B层、C层为金属的氧化物或氟化物，D为内保护层，E为外保护层；使用溅射法镀上A层；蒸镀法镀上各层B层和C层；用电子束蒸镀法镀上D层和E层。本发明结合多种现有工艺对不同的膜层选择性处理，且合理设计膜系结构，使膜系的可靠性和光学性能的保持性得到本质上的保证，本发明所镀的膜具有较好的光学性能，对可见光透过率最高可达96.7%，并具有较长的使用寿命。

技术领域

本发明涉及光学镜片制造技术领域，尤其是一种镜片多层高通光耐久镀膜工艺。

背景技术

光学镜片一般为玻璃或者树脂材质，等等，不论其为哪一种，根式实际生产需要，都要对其表面镀上一层增透膜、增反膜、增强膜等特殊用途的膜层。而镀膜对清洁环境和镜片表面平整、均匀性的要求较高，需要对其进行镀膜前清洗。

镀膜效果关系到镜片后期使用的除了镜片本身之外的最大影响因素。增透膜、增反膜、选择性波段光透过膜等，均是重要的镀膜综合效果。为了得到针对性的镀膜效果，需要对镀膜的方法进行进一步改进，目前有蒸镀、溅射镀膜等，适用于不同的工况，但各自优劣势也比较明显。

发明内容

发明目的：为了使镜片的镀膜工艺灵活性得到提高，镀膜可控并且得到更好的透过率和滤去特定的光（紫外、红外灯），本发明设计一种结构紧凑的镜片多层高通光耐久镀膜工艺，以解决现有技术中存在的问题。

发明内容：一种镜片多层高通光耐久镀膜工艺，包括以下步骤：

（1）、选取镜片，折射率在1.45-1.8之间，确定镀膜膜系结构为A+(B+C)^m+D+E；其中A层为SiO₂，B层、C层为金属的氧化物或氟化物，D为内保护层，E为外保护层；

（2）、使用溅射法镀上A层；

（3）、将镜片置于可旋转的工件盘上，选取蒸发角度范围在55~75°，放入热气流蒸镀室，蒸镀室温度80~88℃，相对湿度75±5%，同时工件盘旋转，旋转时镜片绕其形心作平面回转运动，按此法依次镀上各层B层和C层；

（4）、（3）步骤后镜片缓慢冷却，用电子束蒸镀法对镜片镀上D层和E层。

作为优选，所述内保护层D为TiO₂层或Ti₃O₅层，厚度为60-95nm，所述外保护层E为Si₃N₄层，厚度为100-150nm。内保护层D层耐光紫外线，外保护层E层抗划伤，延长使用寿命。

作为优选，m=2或3，B层的第一层紧贴A层，所述B层为氧化铝、氧化镁、氧化锌中的一种，厚度为45-60nm，所述C为氟化镁、氟化钙中的一种，厚度为30-50nm，再依次镀上第二层B层、C层，如此循环。B和C层是主要光学层，主要作用是针对可见光波段增透和滤去其他波长的光。

作为优选，所述A层SiO₂的厚度为80-120nm。二氧化硅起到最后一层保护作用，同时为B、C层提供所需的表面性质，以控制扩散形式。

作为优选，所述步骤（4），镜片进入电子束蒸镀室的蒸镀工艺条件为：蒸镀室温度15-22℃，相对湿度40-49%。电子束蒸镀温度可适当低一些。

作为优选，所述步骤（3）的冷却时间不少于6h。冷却时间长膜层铺展均匀，膜层结晶度好。

作为优选，所述B层或C层从内向外膜层厚度分别依次增大。外层精度可要求低些，故可控制的粗略些，同时这样操作工艺条件更容易控制。