[发明专利]一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置有效
申请号: | 201710737277.6 | 申请日: | 2017-08-24 |
公开(公告)号: | CN107502872B | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 周忠太;张齐亮;孟红文;张小涛 | 申请(专利权)人: | 新乡市巨能合成材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/18 |
代理公司: | 新乡市平原智汇知识产权代理事务所(普通合伙) 41139 | 代理人: | 路宽 |
地址: | 453000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 下气室 通孔 通孔内壁 套接 金属有机化学 沉淀反应器 反应腔室 螺旋混合 喷淋装置 水蒸气管 沉淀板 反应腔 室内壁 外壁 气管 沉淀 送气 螺旋式混合 顶部外壁 配合设置 循环气管 上气室 多层 卡接 | ||
本发明公开了一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置,包括固定在地面上的下气室和反应腔室,所述下气室一侧外壁开有第一通孔,且第一通孔内壁套接有水蒸气管,所述下气室靠近水蒸气管一侧外壁开有第二通孔,且第二通孔内壁套接有Zn(C2H5)2气管,所述上气室顶部外壁开有第三通孔,且Zn(C2H5)2气管远离下气室一端套接在第三通孔内壁上,所述反应腔室内壁两侧卡接有同一沉淀板,且反应腔室内壁一侧开有第四通孔。本发明通过设置了螺旋混合管,采用螺旋式混合方式,混合面积较大,循环气管可以使气体反复进入反应腔室和螺旋混合管,配合设置在沉淀板之间的送气斗,可以均匀的多层沉淀,是沉淀均匀充分利用原材料。
技术领域
本发明涉及喷淋装置技术领域,尤其涉及一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置。
背景技术
由于金属有机化合物化学气相沉淀技术具有可以生长纯度很高的材料、生长易于控制、生长超薄外延层、大规模生产等优点,所以金属有机化合物化学气相技术成为现在制备化合物半导体薄膜的关键技术,如Zn(C2H5)2气体和水蒸气反应制备氧化锌薄膜,被广泛的运用于太阳能电池、传感器、发光管等领域,但是大部分金属有机化合物化学气相沉淀设备都来源于进口,易耗品及备件中价格最高的就是反应器的喷淋头,目前有垂直喷淋头方式、双束流方式、径向三重流方式,以及双束流方式为主,但上述方式的大面积沉淀有反应不充分造成的原材料浪费、沉积不够均匀影响工艺问题。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置。
为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置,包括固定在地面上的下气室和反应腔室,所述下气室一侧外壁开有第一通孔,且第一通孔内壁套接有水蒸气管,所述下气室靠近水蒸气管一侧外壁开有第二通孔,且第二通孔内壁套接有Zn(C2H5)2气管,所述下气室顶部外壁开有第三通孔,且Zn(C2H5)2气管远离下气室一端套接在第三通孔内壁上,所述反应腔室内壁两侧卡接有同一沉淀板,且反应腔室内壁一侧开有第四通孔,且第四通孔内壁套接有进气管,所述进气管底部外壁套接有循环气管,且循环气管外壁开有气孔,所述循环气管远离反应腔室一侧套接在第三通孔内壁上,所述进气管顶部外壁通过三通管套接有螺旋混合管,且螺旋混合管一侧外壁套接有第一送气管,螺旋混合管另一侧外壁套接有第二送气管,所述第一送气管和第二送气管底部外壁均焊接有送气斗,所述下气室顶部内壁焊接有单向透气板,且单向透气板上表面和反应腔室底部外壁紧密接触。
优选的,所述单向透气板由高分子单向透气膜制成,且单向透气板的单向透气方向为下气室到反应腔室。
优选的,所述沉淀板的数量为十至十五个,且十至十五个沉淀板等距离对称分布于反应腔室两侧内壁之间。
优选的,所述气孔数量为二十至三十个,且二十至三十个气孔等距离环形分布于循环气管外壁。
优选的,所述沉淀板外壁涂覆有催化剂,且送气斗底部外壁与沉淀板一侧内壁相互平行。
优选的,所述循环气管的外径比Zn(C2H5)2气管外径小,且循环气管的外径为二至三厘米,Zn(C2H5)2气管的外径为五至八厘米。
本发明的有益效果为:本喷淋装置,通过设置了螺旋混合管,采用螺旋式混合方式,混合面积较大,通过设置了循环气管,可以使气体反复进入反应腔室和螺旋混合管,配合设置在沉淀板之间的送气斗,可以均匀的多层沉淀,是沉淀均匀充分利用原材料。
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