[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 201710739408.4 | 申请日: | 2017-08-25 |
公开(公告)号: | CN108631760A | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | 千坂纯一;葛西圭 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H03K17/14 | 分类号: | H03K17/14 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 胡建新 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 开关元件 电流反射镜电路 半导体装置 达林顿连接 基准电压 源极 用电阻元件 导通状态 电压设定 恒流电路 截止状态 恒流 流通 | ||
根据实施方式,半导体装置具备:第1开关元件,栅极被输入第1基准电压;第2开关元件,栅极被输入第1电压;第3开关元件,达林顿连接有第1开关元件;第4开关元件,达林顿连接有第2开关元件;第1电流反射镜电路,调整在第3及第4开关元件中流通的电流;第5开关元件,基于第1基准电压与第1电压之差,切换为导通状态和截止状态;恒流电路;第2电流反射镜电路,供给恒流;及电压设定用电阻元件,设置在第1开关元件的源极与第3开关元件的栅极之间或者第2开关元件的源极与第4开关元件的栅极之间的任一方。
关联申请
本申请享受以日本专利申请2017-58069号(申请日:2017年3 月23日)为基础申请的优先权。本申请通过参照该基础申请而包括基础申请的全部内容。
技术领域
本发明的实施方式涉及半导体装置。
背景技术
N沟道型的MOS(Metal Oxide Semiconductor:金属氧化物半导体)晶体管例如被用作切换是否对负载供给电流的开关元件。在这样的用途中,存在增压电路与上述MOS晶体管的栅极连接的情况。此时,增压电路的输出电压超过栅极耐压时,MOS晶体管有可能损伤。因此,希望增压电路的输出电压被控制为一定以不超过栅极耐压。
但是,为了控制增压电路的输出电压,而使用如例如二极管那样的电气特性易于依赖于温度的元件时,输出电压的偏差范围可能达到标准外。
发明内容
本发明的实施方式,提供能够进行不易受到温度的影响的电压控制的半导体装置。
实施方式的半导体装置,具备:第1开关元件,栅极被输入第1 基准电压;第2开关元件,栅极被输入与所述第1基准电压相比较的第1电压;第3开关元件,达林顿连接有所述第1开关元件;第4开关元件,达林顿连接有所述第2开关元件;第1电流反射镜电路,调整在所述第3开关元件及所述第4开关元件中流通的电流;第5开关元件,基于所述第1基准电压与所述第1电压之差,切换为导通状态和截止状态;恒流电路,生成恒流;第2电流反射镜电路,对所述第 1开关元件及所述第2开关元件供给所述恒流;以及电压设定用电阻元件,设置在所述第1开关元件的源极与所述第3开关元件的栅极之间或者所述第2开关元件的源极与所述第4开关元件的栅极之间的任一方。
附图说明
图1是第1实施方式的半导体装置的电路图。
图2是第1实施方式的比较器的电路图。
图3是恒流电路的电路图。
图4是第2实施方式的比较器的电路图。
图5是第3实施方式的比较器的电路图。
具体实施方式
(第1实施方式)
图1是第1实施方式的半导体装置的电路图。图1所示的半导体装置1具有增压电路10及比较器20。增压电路10及比较器20与N 沟道型的MOS晶体管100的栅极连接。
N沟道型MOS晶体管100的漏极,与电源端子300连接。源极与负载200及输出端子302连接。MOS晶体管100导通时,电流被供给至负载200。另一方面,MOS晶体管100截止时,向负载200 的电流供给停止。
增压电路10是所谓的狄克逊型的供给泵电路,具有二极管D1~二极管D5、电容器C1~电容器C5、变换器INV1~变换器INV4及与(AND)电路11。二极管D1~二极管D5在电源端子300与MOS 晶体管100的栅极之间串联连接。
电容器C1~电容器C5的一端,分别连接在二极管D1~二极管 D5之间。电容器C1、电容器C3及电容器C5的另一端,共同连接于变换器INV2的输出端子。电容器C2及电容器C4的另一端,共同连接于变换器INV4的输出端子。
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