[发明专利]柔性基板及其制造方法、柔性显示器件和柔性显示装置在审
申请号: | 201710742314.2 | 申请日: | 2017-08-25 |
公开(公告)号: | CN107482022A | 公开(公告)日: | 2017-12-15 |
发明(设计)人: | 张俊瑞 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/683 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司11438 | 代理人: | 袁礼君,王卫忠 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 柔性 及其 制造 方法 显示 器件 显示装置 | ||
1.一种柔性基板的制造方法,包括:
提供承载基板;
在所述承载基板上形成光敏胶层;
在所述光敏胶层上设置柔性基底,所述柔性基底包括有效区域和非有效区域;
所述光敏胶层包括第一区域和第二区域,光固化所述光敏胶层中所述第一区域的光敏胶,保留所述第二区域的光敏胶未固化;
在所述柔性基底上形成元件,使得所述柔性基底的非有效区域在所述承载基板上的正投影覆盖所述光敏胶层的所述第一区域在所述承载基板上的正投影,所述光敏胶层的所述第二区域在所述承载基板上的正投影覆盖所述柔性基底的有效区域在所述承载基板上的正投影;
沿着所述非有效区域和所述有效区域之间的界限切割所述承载基板,使得所述非有效区域和所述有效区域分离;
将所述有效区域中的承载基板与所述柔性基底分离。
2.如权利要求1所述的柔性基板的制造方法,包括将掩膜版设置在所述承载基板远离所述光敏胶的一面上,所述掩膜版包括透光区和非透光区,光透过所述透光区将所述第一区域的光敏胶固化。
3.如权利要求1所述的柔性基板的制造方法,其中在所述光敏胶层上设置柔性基底包括在所述光敏胶层上涂布柔性液体材料,然后固化形成柔性基底。
4.如权利要求3所述的柔性基板的制造方法,其中所述柔性基底为柔性显示基板,所述非有效区域为所述柔性基底的非显示区域,所述有效区域为所述柔性基底的显示区域。
5.如权利要求1所述的柔性基板的制造方法,包括将所述非有效区域设置在所述有效区域的周边。
6.如权利要求1所述的柔性基板的制造方法,其中所述承载基板为透明基板。
7.如权利要求1所述的柔性基板的制造方法,其中所述光敏胶为紫外线固化的光敏胶。
8.一种柔性基板,采用权利要求1-7中任一方法制造。
9.一种柔性显示器件,采用权利要求1-7中任一方法制造。
10.如权利要求9所述的柔性显示器件,包括液晶显示器、有机发光二极管或者电泳显示器。
11.一种柔性显示装置,包括权利要求9所述的柔性显示器件。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的