[发明专利]坐标校正方法和坐标测定装置有效
申请号: | 201710743552.5 | 申请日: | 2017-08-25 |
公开(公告)号: | CN107782222B | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 中川英幸;石川修弘 | 申请(专利权)人: | 株式会社三丰 |
主分类号: | G01B5/008 | 分类号: | G01B5/008 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 坐标 校正 方法 测定 装置 | ||
1.一种坐标校正方法,是使用于第一坐标测定装置的坐标校正方法,该第一坐标测定装置具备:第一测定探头,其具备第一测针和探头主体,该第一测针具有用于与被测定物接触的第一测定触头,该探头主体将该第一测针以能够移动的方式支承,并按照该第一测定触头的位移进行第一探头输出;第一驱动机构,其使该第一测定探头相对于所述被测定物相对地移动;以及第一处理装置,其基于该第一探头输出和由该第一驱动机构使该第一测定探头移动的第一移动量运算所述被测定物的形状坐标,该坐标校正方法的特征在于,
作为前级校正步骤,包括以下步骤:
将第二测定探头配置于第二坐标测定装置的第二驱动机构,该第二坐标测定装置具备所述第二驱动机构和第二处理装置,该第二驱动机构使所述第二测定探头移动,该第二测定探头具备将具有第二测定触头的第二测针以能够移动的方式支承的所述探头主体,该第二处理装置基于按照所述第二测定触头的位移的第二探头输出和由该第二驱动机构使该第二测定探头移动的第二移动量求出能够对针对该第二移动量的该第二探头输出进行校正的前级校正矩阵;
限制所述第二测定触头的平动位移;
在由所述第二驱动机构使所述第二测定探头进行了移动时分别获取所述第二移动量和所述第二探头输出;以及
使用所述第二移动量和所述第二探头输出来生成所述前级校正矩阵,所述前级校正矩阵由分别用于对所述第二探头输出的线性坐标成分和非线性坐标成分进行校正的第二线性校正元素和第二非线性校正元素构成,所述第二移动量和所述第二探头输出是在该第二线性校正元素的数量与该第二非线性校正元素的数量的合计数以上的测定点处分别获取的,
作为后级校正步骤,包括以下步骤:
将所述第一测定探头配置于所述第一驱动机构;
限制所述第一测定触头的平动位移;
在由所述第一驱动机构使所述第一测定探头进行了移动时分别获取所述第一移动量和所述第一探头输出;
使用所述第一移动量和所述第一探头输出来生成由用于对该第一探头输出的线性坐标成分进行校正的第一线性校正元素构成的中间校正矩阵;以及
利用基于所述中间校正矩阵和所述前级校正矩阵生成的后级校正矩阵来校正所述第一探头输出。
2.根据权利要求1所述的坐标校正方法,其特征在于,
作为所述前级校正步骤,还包括以下步骤:将仅由所述第二线性校正元素构成的前级线性校正矩阵的逆矩阵与所述前级校正矩阵相乘来生成前级中间校正矩阵,
作为所述后级校正步骤,还包括以下步骤:使用所述前级中间校正矩阵生成所述后级校正矩阵。
3.根据权利要求2所述的坐标校正方法,其特征在于,
利用基于所述中间校正矩阵和所述前级校正矩阵生成的后级校正矩阵来校正所述第一探头输出的步骤包括以下步骤:将所述中间校正矩阵与所述前级中间校正矩阵相乘来生成所述后级校正矩阵。
4.根据权利要求2所述的坐标校正方法,其特征在于,
作为所述前级校正步骤,还包括以下步骤:
与所述第二测定探头的不同的形态数对应地变更该第二测定探头的形态,重复进行从将该第二测定探头配置于所述第二驱动机构的步骤至生成所述前级校正矩阵的步骤;以及
基于多个该前级校正矩阵,生成所述第二线性校正元素或该第二测定探头的形态与所述前级中间校正矩阵的非线性校正元素之间的相关关系,
利用基于所述中间校正矩阵和所述前级校正矩阵生成的后级校正矩阵来校正所述第一探头输出的步骤包括以下步骤:
使用所述相关关系求出所述第一线性校正元素来代替所述第二线性校正元素,或者使用所述相关关系求出与所述第一测定探头的形态对应的所述前级中间校正矩阵的非线性校正元素来代替与所述第二测定探头的形态对应的非线性校正元素;以及
利用所述第一线性校正元素和该前级中间校正矩阵的非线性校正元素生成所述后级校正矩阵。
5.根据权利要求4所述的坐标校正方法,其特征在于,
所述第二测定探头的不同的形态数基于所述第二测针的不同的形态数,并且所述第一测定探头的形态基于所述第一测针的形态。
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