[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

研磨部，该研磨部使用研磨液来对基板进行研磨；

第一清洗部，该第一清洗部一边由基板保持旋转机构对由所述研磨部研磨后的基板进行保持并使所述基板旋转，一边从喷嘴供给硫酸及过氧化氢溶液，接着，使用纯水来对所述基板进行清洗；

第二清洗部，该第二清洗部一边由基板保持旋转机构对由所述第一清洗部清洗后的基板进行保持并使所述基板旋转，一边使用碱性的药液及过氧化氢溶液来对所述基板进行清洗；

干燥部，该干燥部使由所述第二清洗部清洗后的基板干燥。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

不具有使由所述研磨部研磨之后且由所述第一清洗部清洗之前的所述基板干燥的机构。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

具备搬运部，该搬运部不使由所述研磨部研磨后的基板干燥就将该基板搬运到所述第一清洗部。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

具备第一液体供给机构，该第一液体供给机构对由所述搬运部搬运中的基板冲淋液体。

5.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

具备基板站和第二液体供给机构，

在所述基板站载放由所述研磨部研磨之后且由所述第一清洗部清洗之前的基板，

所述第二液体供给机构对载放于所述基板站的基板冲淋液体。

6.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第一清洗部收纳于第一框体，该第一框体设有可开闭的第一闸门，

所述第二清洗部收纳于第二框体，该第二框体设有可开闭的第二闸门，

所述干燥部收纳于第三框体，该第三框体设有可开闭的第三闸门。

7.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

具备第三清洗部，该第三清洗部使用碱性的药液及过氧化氢溶液来对由所述研磨部研磨后的基板进行清洗，

所述第一清洗部对由所述第三清洗部清洗后的基板进行清洗。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第三清洗部一边将碱性的药液及过氧化氢溶液供给到所述基板，一边使清洗部件接触并清洗所述基板。

9.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第二清洗部在使用碱性的药液及过氧化氢溶液对所述基板进行清洗之后，进行双流体喷射清洗。

10.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述研磨部使用包含二氧化铈的研磨液来对所述基板进行研磨。

11.一种基板处理方法，其特征在于，具备：

研磨工序、第一清洗工序、第二清洗工序及干燥工序，

在所述研磨工序中，通过基板处理装置中的研磨部，使用研磨液对基板进行研磨；

在所述研磨工序之后的所述第一清洗工序中，通过所述基板处理装置中的第一清洗部，一边由基板保持旋转机构对所述基板进行保持并使所述基板旋转，一边使用硫酸及过氧化氢溶液对所述基板进行清洗，接着，使用纯水对所述基板进行清洗；

在所述第一清洗工序之后的所述第二清洗工序中，通过所述基板处理装置中的第二清洗部，一边由基板保持旋转机构对所述基板进行保持并使所述基板旋转，一边使用碱性的药液及过氧化氢溶液对所述基板进行清洗；

在所述第二清洗工序之后的所述干燥工序中，通过所述基板处理装置中的干燥部，使所述基板干燥。

12.根据权利要求11所述的基板处理方法，其特征在于，

在所述研磨工序之后具备搬运工序，在该搬运工序中，不使研磨后的基板干燥就将该基板从所述研磨部搬运到所述第一清洗部。